Nyní, v nejnovějším oznámení společnosti Canon, společnost uvádí, že nejenže začne dodávat tato zařízení letos, ale také očekává, že časem zvládne technologii 2nm nanotisk.
Stroj na výrobu 5nm čipů od Canonu je desetkrát levnější než stroj od ASML
U konvenční fotolitografie se obrysy obvodu vykreslují na křemíkový substrát promítáním obrazu přes fotomasku a následným vyleptáním částí krystalu, které nejsou chráněny fotomateriálem. Technologie společnosti Canon zahrnuje nanotisk obrysu obvodu na křemík. Umožní až 10násobnou úsporu nákladů a 90% snížení nákladů na energii ve srovnání s konvenční fotolitografií, která se dnes používá hlavně při výrobě 3D NAND paměťových čipů.
Podle zástupce japonské společnosti je technologie připravena pro hromadnou výrobu a dodávky speciálního zařízení zákazníkům začnou ještě letos. Technologie Canonu však nenahradí litografii v extrémním ultrafialovém (EUV) záření v průmyslovém měřítku, ale naopak je podpůrným a levnějším řešením.
Problém je v tom, že vzhledem k více než ročnímu zpoždění trhu s fotolitografickými zařízeními bude ochota společnosti Canon dodat letos stroje na výrobu 5nm čipů přitahovat zákazníky. Jedním z omezení, které Canon ohledně svého systému zmínil, je vysoká míra chybovosti, a podle odborníků nesmí tato míra překročit 10 %, aby byla považována za komerčně atraktivní.
Společnost Canon se také zaměřuje na technologii tisku s 2nm nanočipy. K tomu se společnost bude muset spolehnout na nějaké dodatečné vybavení, i když úprava nebude významná.
Otázkou je, zda si čínští zákazníci budou moci od společnosti Canon takové zařízení koupit. Není to tak jednoduché. Canon jednak nepoužívá komponenty a technologie vyrobené v USA, takže americká vláda nemůže na japonskou společnost uvalit vývozní omezení. Na druhou stranu jsou japonská vývozní omezení pro Čínu mnohem širší než v USA. V důsledku toho je přístup čínských společností k nanotiskárnám Canon nejistý.
Zdrojový odkaz






Komentář (0)