សហរដ្ឋអាមេរិកកំពុងស្វែងរកការបំបែកភាពផ្តាច់មុខរបស់ ASML។

រដ្ឋាភិបាល សហរដ្ឋអាមេរិកទើបតែបានអនុម័តថវិកាចំនួន ៨២៥ លានដុល្លារដើម្បីសាងសង់មជ្ឈមណ្ឌលស្រាវជ្រាវ និងអភិវឌ្ឍន៍សម្រាប់ឧបករណ៍បោះពុម្ពលីតូក្រាហ្វីអ៊ុលត្រាវីយូឡេខ្លាំង (EUV) នៅក្នុងប្រទេសនេះ ដែលមានគោលបំណងបំបែកភាពផ្តាច់មុខរបស់ ASML។

មជ្ឈមណ្ឌលថ្មីនេះ ដែលមានឈ្មោះថា EUV Accelerator ដែលមានទីតាំងនៅ Albany NanoTech Complex ក្នុងទីក្រុងញូវយ៉ក គឺជាមជ្ឈមណ្ឌលស្រាវជ្រាវ និងអភិវឌ្ឍន៍ (R&D) ដំបូងគេដែលត្រូវបានបង្កើតឡើងក្រោមការឧបត្ថម្ភនៃច្បាប់ CHIPS។

ដោយមានគោលដៅជំរុញឧស្សាហកម្មស៊ីមីកុងដុកទ័ររបស់សហរដ្ឋអាមេរិក ឧបករណ៍បង្កើនល្បឿន EUV នឹងត្រូវបានបំពាក់ដោយគ្រឿងចក្រផលិតបន្ទះឈីបទំនើបៗ ដែលអនុញ្ញាតឱ្យអ្នកស្រាវជ្រាវឧស្សាហកម្មសហការជាមួយដៃគូបណ្តុះបណ្តាលសាកលវិទ្យាល័យ។

លោកសមាជិកព្រឹទ្ធសភា Schumer បានមានប្រសាសន៍ថា «នៅពេលដែលការស្រាវជ្រាវកម្រិតខ្ពស់ត្រូវបានធ្វើឡើងនៅសហរដ្ឋអាមេរិក យើងនឹងអាចបង្កើតបន្ទះឈីបទំនើបបំផុតរបស់ពិភពលោក ដែលផ្តល់ឱ្យ យោធារបស់យើង នូវអត្ថប្រយោជន៍»។ «ជាការពិតណាស់ វាក៏ធានាថាសេដ្ឋកិច្ច និងអាជីវកម្មអាមេរិកមានអត្ថប្រយោជន៍នៅក្នុងឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិកទំនើបផងដែរ»។

ប្រទេសនានាកំពុងប្រណាំងប្រជែងគ្នាដើម្បីស្វែងរកមធ្យោបាយដើម្បីដោះស្រាយភាពជាប់គាំងនៃ ASML។ រូបថត៖ Bloomberg។

ទន្ទឹមនឹងនេះ រដ្ឋាភិបាលសហរដ្ឋអាមេរិកចាត់ទុក EUV ជាបច្ចេកវិទ្យាដ៏សំខាន់មួយក្នុងការផលិតបន្ទះឈីបទំនើប ហើយមានគោលបំណងធ្វើជាម្ចាស់លើវា។

ទីក្រុងវ៉ាស៊ីនតោនក៏បានអះអាងផងដែរថា ការចូលប្រើប្រាស់ ការស្រាវជ្រាវ និងការអភិវឌ្ឍ EUV គឺមានសារៈសំខាន់ណាស់ក្នុងការពង្រីកតំណែងឈានមុខគេរបស់អាមេរិក កាត់បន្ថយពេលវេលា និងថ្លៃដើមនៃការបង្កើតគំរូដើម និងការកសាង និងថែរក្សាប្រព័ន្ធអេកូឡូស៊ីកម្លាំងពលកម្មពាក់កណ្តាលសៀគ្វី។

នៅពេលដំណើរការ ឧបករណ៍បង្កើនល្បឿន EUV ត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងផ្តោតលើការអភិវឌ្ឍ EUV ឌីជីថលដែលមានរន្ធបើកខ្ពស់កម្រិតខ្ពស់ ក៏ដូចជាការស្រាវជ្រាវបច្ចេកវិទ្យាដែលមានមូលដ្ឋានលើ EUV ផ្សេងទៀត។

មជ្ឈមណ្ឌលនេះត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងផ្តល់សិទ្ធិចូលប្រើប្រាស់ EUV NA ស្តង់ដារនៅឆ្នាំក្រោយ និង EUV High-NA នៅឆ្នាំ 2026 ដល់សមាជិកនៃមជ្ឈមណ្ឌលបច្ចេកវិទ្យាសេមីកុងដុកទ័រជាតិសហរដ្ឋអាមេរិក (NTSC) និង Natcast។

លោកស្រី Gina Raimondo រដ្ឋមន្ត្រីក្រសួងពាណិជ្ជកម្មសហរដ្ឋអាមេរិក បានមានប្រសាសន៍នៅក្នុងសេចក្តីថ្លែងការណ៍មួយថា “ការបើកដំណើរការមជ្ឈមណ្ឌលនេះ គឺជាព្រឹត្តិការណ៍ដ៏សំខាន់មួយ ក្នុងការធានាថា សហរដ្ឋអាមេរិកនៅតែជាអ្នកដឹកនាំសកលលោក ក្នុងការច្នៃប្រឌិតឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិក”។

កាលពីខែកុម្ភៈ រដ្ឋបាលលោក Biden បានប្រកាសផ្តល់មូលនិធិសម្រាប់ក្រុមហ៊ុនផលិតបន្ទះឈីប GlobalFoundries ដើម្បីជំរុញការពង្រីកផលិតកម្មនៅភាគខាងជើងទីក្រុង Albany និង Vermont។ កាលពីខែមេសា សហរដ្ឋអាមេរិកបានប្រកាសបន្ថែមទៀតអំពីកញ្ចប់ថវិកាចំនួន 6.1 ពាន់លានដុល្លារសម្រាប់ក្រុមហ៊ុន Micron ដើម្បីផលិតបន្ទះឈីបអង្គចងចាំកម្រិតខ្ពស់។

ការធ្វើ​ឌីយ៉ូត​ដោយ​ពន្លឺ​លើ​បន្ទះ​ស៊ីលីកុន គឺជាដំណើរការនៃការបោះពុម្ពដ្យាក្រាមសៀគ្វីទៅលើផ្ទៃរសើបនៃបន្ទះស៊ីលីកុន ដោយការបញ្ចាំងធ្នឹមពន្លឺទៅលើបន្ទះស៊ីលីកុនតាមរយៈឌីសកញ្ចក់ដែលត្រូវបានគូរជាមុនជាមួយនឹងដ្យាក្រាមសៀគ្វី។

សៀគ្វី​កាន់តែតូច វាកាន់តែត្រូវការប្រភពពន្លឺដែលមានរលកពន្លឺខ្លីជាងមុន ដែលក្នុងនោះ កាំរស្មីអ៊ុលត្រាវីយូឡេខ្លាំង (EUV) គឺជាការអភិវឌ្ឍទំនើបបំផុតដែលមាននាពេលបច្ចុប្បន្ន។

ក្នុងរយៈពេលប៉ុន្មានឆ្នាំមកនេះ ASML បានកាន់កាប់ "សិទ្ធិផ្តាច់មុខ" លើការផ្គត់ផ្គង់ម៉ាស៊ីនលីចូក្រាហ្វី ដោយប្រែក្លាយក្រុមហ៊ុនហូឡង់នេះទៅជា "ចំណុចកកស្ទះ" នៅក្នុងខ្សែសង្វាក់ផ្គត់ផ្គង់ឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិក។

យោងតាម ​​SCMP ក្រុមហ៊ុន TSMC និង ASML មានវិធីមួយដើម្បីបិទឧបករណ៍ផលិតបន្ទះឈីបពីចម្ងាយ ក្នុងករណីមានវិបត្តិ ភូមិសាស្ត្រនយោបាយ ។

រោងចក្រផលិតបន្ទះឈីបទាំងនេះក៏ជាចំណុចក្តៅនៃការប្រជែងគ្នារវាងទីក្រុងវ៉ាស៊ីនតោន និងទីក្រុងប៉េកាំងផងដែរ។ បច្ចុប្បន្ន ASML លក់ម៉ាស៊ីន EUV High-NA ទំនើបបំផុតរបស់ខ្លួនក្នុងតម្លៃ ៣៨០ លានដុល្លារ ដោយបានដឹកជញ្ជូនឯកតាទីមួយទៅឱ្យក្រុមហ៊ុន Intel កាលពីដើមឆ្នាំនេះ និងទីពីរទៅឱ្យ "អតិថិជនដែលមិនស្គាល់អត្តសញ្ញាណ"។

មិនត្រឹមតែសហរដ្ឋអាមេរិកទេ ថែមទាំងមានសម្ព័ន្ធមិត្តផ្សេងទៀតនៅក្នុងខ្សែសង្វាក់ផ្គត់ផ្គង់ឧបករណ៍អេឡិចត្រូនិកសកលក៏កំពុងខិតខំផលិត EUV ក្នុងស្រុកផងដែរ។

កាលពីដើមខែសីហា ក្រុមអ្នកស្រាវជ្រាវជប៉ុន (OIST) បានប្រកាសពីការអភិវឌ្ឍដោយជោគជ័យនៃម៉ាស៊ីនបោះពុម្ពលីតូក្រាហ្វី EUV ដែលសាមញ្ញ និងមានតម្លៃថោកជាង។ លើសពីនេះ ឧបករណ៍នេះមានការរចនាសាមញ្ញជាងប្រព័ន្ធ ASML ធម្មតា ឧទាហរណ៍ ដោយកាត់បន្ថយចំនួនកញ្ចក់បំភ្លឺអុបទិកមកត្រឹមពីរ ជំនួសឱ្យកញ្ចក់ស្តង់ដារចំនួនប្រាំមួយ។

ជាមួយនឹងការរចនាសាមញ្ញជាង និងតម្លៃទាបជាងបើប្រៀបធៀបទៅនឹងឧបករណ៍របស់ ASML ម៉ាស៊ីន EUV ថ្មី ប្រសិនបើផលិតបានច្រើន វាអាចផ្លាស់ប្តូរឧស្សាហកម្មផលិតបន្ទះឈីប ដោយហេតុនេះប៉ះពាល់ដល់ឧស្សាហកម្មស៊ីមីកុងដុកទ័រទាំងមូល។

លើសពីនេះ គុណសម្បត្តិមួយរបស់ម៉ាស៊ីនគឺភាពជឿជាក់កើនឡើង និងភាពស្មុគស្មាញនៃការថែទាំថយចុះ។ ការប្រើប្រាស់ថាមពលថយចុះគួរឱ្យកត់សម្គាល់ក៏ជាចំណុចខ្លាំងនៃប្រព័ន្ធថ្មីផងដែរ។

អរគុណចំពោះផ្លូវពន្លឺដែលបានធ្វើឱ្យប្រសើរឡើង ប្រព័ន្ធនេះដំណើរការជាមួយប្រភពពន្លឺ EUV ត្រឹមតែ 20 W ប៉ុណ្ណោះ ដែលបណ្តាលឱ្យមានការប្រើប្រាស់ថាមពលសរុបក្រោម 100 kW។ ផ្ទុយទៅវិញ ប្រព័ន្ធ EUV បែបប្រពៃណីជាធម្មតាត្រូវការថាមពលច្រើនជាង 1 MW។

OIST បានដាក់ពាក្យសុំប៉ាតង់សម្រាប់បច្ចេកវិទ្យានេះ ហើយបានបញ្ជាក់ថាខ្លួននឹងបន្តអភិវឌ្ឍម៉ាស៊ីនបោះពុម្ពលីតូក្រាហ្វី EUV សម្រាប់ការអនុវត្តជាក់ស្តែង។ ទីផ្សារម៉ាស៊ីន EUV សកលត្រូវបានគេរំពឹងថានឹងកើនឡើងពី 8.9 ពាន់លានដុល្លារនៅឆ្នាំ 2024 ដល់ 17.4 ពាន់លានដុល្លារនៅឆ្នាំ 2030។

(យោងតាម ​​Fortune និង Bloomberg)

ប្រភព៖ https://vietnamnet.vn/my-tim-cach-pha-the-doc-quyen-cua-asml-2338672.html