USA prøver å bryte ASMLs monopol.

Den amerikanske regjeringen har nettopp godkjent 825 millioner dollar i finansiering for å bygge et forsknings- og utviklingssenter for ekstrem ultrafiolett (EUV) litografiutstyr i landet, med sikte på å bryte ASMLs monopol.

Det nye senteret, kalt EUV Accelerator, som ligger i Albany NanoTech Complex i New York, er det første forsknings- og utviklingsanlegget (FoU) som er etablert i henhold til CHIPS Act.

Med mål om å styrke den amerikanske halvlederindustrien, vil EUV-akseleratoren bli utstyrt med toppmoderne maskiner for produksjon av brikke, slik at industriforskere kan samarbeide med universiteters opplæringspartnere.

«Når avansert forskning utføres i USA, vil vi kunne lage verdens mest avanserte brikker, noe som gir militæret vårt en fordel», sa senator Schumer. «Det sikrer selvfølgelig også at den amerikanske økonomien og bedriftene har en fordel innen avanserte halvledere.»

Landene kjemper om å finne måter å løse opp i ASML-flaskehalsen på. Foto: Bloomberg.

I mellomtiden anser den amerikanske regjeringen EUV som en avgjørende teknologi i produksjonen av avanserte brikker og har som mål å mestre den.

Washington argumenterer også for at tilgang til, forskning på og utvikling av EUV-er er avgjørende for å utvide USAs ledende posisjon, redusere prototypetid og -kostnader, og bygge og vedlikeholde et økosystem for halvlederarbeidsstyrken.

Når EUV-akseleratoren er i drift, forventes den å fokusere på å utvikle avanserte digitale EUV-er med høy blenderåpning, samt å forske på andre EUV-baserte teknologier.

Senteret forventes å gi tilgang til standard EUV NA neste år og EUV High-NA i 2026 til medlemmer av det amerikanske National Semiconductor Technology Center (NTSC) og Natcast.

«Lanseringen av senteret markerer en viktig milepæl i å sikre at USA forblir en global leder innen halvlederinnovasjon», sa Gina Raimondo, USAs handelsminister, i en uttalelse.

I februar annonserte Biden-administrasjonen finansiering til brikkeprodusenten GlobalFoundries for å øke produksjonsutvidelsen i Nord-Albany og Vermont. I april annonserte USA videre en pakke på 6,1 milliarder dollar til Micron for å produsere avanserte minnebrikker.

Fotolitografi er prosessen med å trykke kretsdiagrammer på den lysfølsomme overflaten av en silisiumskive ved å skinne en lysstråle på silisiumskiven gjennom en glassskive som er forhåndstegnet med kretsdiagrammet.

Jo mindre kretsen er, desto mer krever den lyskilder med kortere bølgelengder, med ekstrem ultrafiolett (EUV) som den mest avanserte utviklingen som er tilgjengelig for øyeblikket.

Gjennom årene har ASML hatt et «monopol» på leveransen av litografimaskiner, noe som har gjort det nederlandske selskapet til en «flaskehals» i forsyningskjeden for halvledere.

Ifølge SCMP har TSMC og ASML en måte å deaktivere brikkestøperiutstyr eksternt i tilfelle en geopolitisk krise.

Disse brikkefabrikkene er også et arnested for strid mellom Washington og Beijing. ASML selger for tiden sin mest avanserte EUV High-NA-maskin for 380 millioner dollar, etter å ha levert den første enheten til Intel tidligere i år og den andre til en «uidentifisert kunde».

Ikke bare USA, men også andre ledd i den globale forsyningskjeden for halvledere streber etter å produsere EUV-er innenlands.

Tidlig i august annonserte japanske forskere (OIST) den vellykkede utviklingen av en enklere og billigere EUV-litografimaskin. Dessuten har denne enheten en enklere design enn det konvensjonelle ASML-systemet, for eksempel ved å redusere antallet optiske lysspeil til bare to, i stedet for standard seks.

Med sin enklere design og lavere kostnad sammenlignet med ASMLs utstyr, kan den nye EUV-maskinen, hvis den masseproduseres, omforme brikkestøperiindustrien, og dermed påvirke hele halvlederindustrien.

Videre er en av maskinens fordeler økt pålitelighet og redusert vedlikeholdskompleksitet. Betydelig redusert strømforbruk er også et sterkt punkt ved det nye systemet.

Takket være optimalisert lysbane, opererer systemet med en EUV-lyskilde på bare 20 W, noe som resulterer i et totalt strømforbruk på under 100 kW. I motsetning til dette krever tradisjonelle EUV-systemer vanligvis mer enn 1 MW strøm.

OIST har sendt inn en patentsøknad for teknologien og uttalt at de vil fortsette å utvikle EUV-litografimaskinen for praktiske anvendelser. Det globale markedet for EUV-maskiner forventes å vokse fra 8,9 milliarder dollar i 2024 til 17,4 milliarder dollar i 2030.

(Ifølge Fortune og Bloomberg)

Kilde: https://vietnamnet.vn/my-tim-cach-pha-the-doc-quyen-cua-asml-2338672.html