טכנולוגיה מסייעת להגדיל את ייצור השבבים ב-50%.

חברת הטכנולוגיה ASML הכריזה זה עתה על פריצת דרך משמעותית בטכנולוגיית ליתוגרפיה אולטרה סגולה קיצונית (EUV). בעזרת מערכת תאורה חדשה לגמרי של 1,000 וואט, המכונה מסוגלת לירות שלוש קרני לייזר במהירות של 100,000 טיפות פח לשנייה. שיפור זה לא רק מגדיל את מהירות ייצור השבבים ב-50% עד 2030, אלא גם מבטיח להפחית משמעותית את עלויות הייצור, ובכך פותח עידן חדש עבור תעשיית המוליכים למחצה כולה.

ASML אישרה לאחרונה שהיא בדרך להשיק את מערכת הליתוגרפיה Twinscan NXE מהדור הבא. מערכת זו מצוידת במקור כוח EUV של 1,000 וואט ויכולה לעבד עד 330 פרוסות מוליכים למחצה לשעה.

מכונה זו, שצפויה להשיק בשנת 2030 או מאוחר יותר, תציע יותר מ-50% יותר כוח מכלי ה-EUV המתקדמים ביותר הזמינים כיום. התקנים אלה יסייעו ליצרני שבבים להגדיל משמעותית את הפרודוקטיביות ולמזער את העלות לכל דיסק מוליך למחצה. עם זאת, כדי לממש שאיפה זו, ASML נאלצה להתגבר על סדרה של אתגרים ולבצע התקדמות טכנולוגית משמעותית.

נציגים מצוות הטכנולוגיה של ASML שיתפו כי השגת קילוואט אחד של חשמל היא הישג מרשים להפליא. החברה אף רואה נתיב פיתוח ברור לכיוון 1,500 וואט ומאמינה כי הגעה ל-2,000 וואט בהחלט אפשרית בעתיד.

כדי להשיג מקור EUV של 1,000 וואט בתוך העשור הקרוב, ASML נאלצה לפתח שיטה חדשה לחלוטין לייצור אור באמצעות שלושה פולסי לייזר. שיטה זו כוללת פולס משנה ראשון כדי לשטח את טיפות הבדיל, פולס משנה שני כדי להרחיב אותן, ולבסוף, פולס לייזר ראשי שהופך את טיפות הבדיל הללו למצב פלזמה כדי לפלוט אור EUV.

בנוסף, המערכת החדשה תצויד במחולל טיפות בדיל מתקדם, שיכפיל את כושר הפעולה ל-100,000 טיפות בדיל בשנייה.

עם זאת, הגדלת מספר טיפות הבדיל פירושה שיותר פסולת תיפלט. לכן, המערכת דורשת אספן פסולת חדש לחלוטין כדי להבטיח שפני השטח של דיסקת המוליך למחצה יישאר נקיים לחלוטין.

יתר על כן, יצירת 1,000 וואט של קרינה היא קשה, אך העברת אנרגיה זו לדיסק המוליך למחצה היא מאתגרת אף יותר. לכן, ASML המציאה מערכת עדשות אופטיות חדשה לחלוטין בעלת העברה גבוהה, שנועדה להגדיל את יכולות העיבוד ליותר מ-450 דיסקיות מוליכים למחצה לשעה.

תפוקת אור גבוהה יותר דורשת גם שדרוג מקיף של מערכות ההרכבה וההנעה של פרוסות המוליכים למחצה.

מקור אור רב עוצמה זה דורש חומרים כימיים פוטורזיסטיים מהדור הבא וסרטים מגנים. משמעות הדבר היא שלא רק ASML, אלא כל המערכת האקולוגית של תעשיית ייצור השבבים חייבת להיות מוכנה להגעתם של כלים חדשים אלה.

נכון לעכשיו, ל-ASML יש תוכניות מפורטות לשלב מקור אור של 1,000 וואט במפת הדרכים של המוצר שלה. הדור הבא של מכונות ליתוגרפיה צפוי להיות מושק ברצף בין השנים 2027 ל-2029.

מקור: https://baophapluat.vn/cong-nghe-giup-tang-50-san-luong-chip.html