Az új központ, az EUV Accelerator, amely a New York-i Albany NanoTech Complexben található, az első kutatási és fejlesztési (K+F) létesítmény, amelyet a CHIPS törvény égisze alatt hoztak létre.

Az amerikai félvezetőipar fellendítése érdekében az EUV Accelerator programot a legmodernebb chipgyártó gépekkel szerelik fel, lehetővé téve az iparági kutatók számára, hogy együttműködjenek az egyetemi képzési partnerekkel.

„Amikor az Egyesült Államokban fejlett kutatásokat végeznek, képesek leszünk létrehozni a világ legfejlettebb chipjeit, ami előnyt biztosít a hadseregünknek ” – mondta Schumer szenátor. „Természetesen ez azt is biztosítja, hogy az amerikai gazdaság és vállalkozások előnyben legyenek a fejlett félvezetők terén.”

sjjjjjjjlll.jpeg
Az országok versenyt futnak, hogy megtalálják a módját az ASML szűk keresztmetszetének kibogozására. Fotó: Bloomberg

Eközben az amerikai kormány az EUV-t kulcsfontosságú technológiának tekinti a fejlett chipek gyártásában, és célja, hogy elsajátítsa annak használatát.

Washington azt is állítja, hogy az EUV-khez való hozzáférés, azok kutatása és fejlesztése elengedhetetlen Amerika vezető pozíciójának növeléséhez, a prototípus-készítési idő és költségek csökkentéséhez, valamint egy félvezető munkaerő-ökoszisztéma kiépítéséhez és fenntartásához.

Amikor működőképes lesz, az EUV Accelerator várhatóan fejlett, nagy rekesznyílású digitális EUV-k fejlesztésére, valamint más EUV-alapú technológiák kutatására fog összpontosítani.

A központ várhatóan jövőre hozzáférést biztosít a szabványos EUV NA, 2026-ban pedig az EUV High-NA szabványhoz az Egyesült Államok Nemzeti Félvezető Technológiai Központjának (NTSC) és a Natcast tagjai számára.

„A központ elindítása jelentős mérföldkő annak biztosításában, hogy az Egyesült Államok továbbra is globális vezető szerepet töltsön be a félvezető-innováció területén” – mondta Gina Raimondo, az Egyesült Államok kereskedelmi minisztere egy nyilatkozatban.

Februárban a Biden-kormányzat bejelentette, hogy finanszírozást nyújt a GlobalFoundries chipgyártónak, hogy fellendítse a termelés bővítését Albany északi részén és Vermontban. Áprilisban az Egyesült Államok bejelentette továbbá egy 6,1 milliárd dolláros csomagot a Micron számára fejlett memóriachipek gyártására.

A fotolitográfia az áramköri rajzok szilíciumlap fényérzékeny felületére történő nyomtatásának folyamata, amelynek során fénysugarat vetítenek a szilíciumlapra egy előre megrajzolt üvegkorongon keresztül.

Minél kisebb az áramkör, annál inkább rövidebb hullámhosszú fényforrásokra van szükség, a jelenleg elérhető legfejlettebb fejlesztés pedig az extrém ultraibolya (EUV) sugárzás.

Az évek során az ASML „monopóliumot” szerzett a litográfiai gépek szállításában, amivel a holland vállalat „szűk keresztmetszetté” vált a félvezető-ellátási láncban.

Az SCMP szerint a TSMC és az ASML képes távolról letiltani a chipgyártó berendezéseket geopolitikai válság esetén.

Ezek a chipgyárak Washington és Peking között is vita tárgyát képezik. Az ASML jelenleg a legfejlettebb EUV High-NA gépét 380 millió dollárért árulja, miután az első egységet az Intelnek szállította le idén korábban, a másodikat pedig egy „ismeretlen ügyfélnek”.

Nemcsak az Egyesült Államok, hanem a globális félvezető-ellátási lánc más szereplői is törekszenek EUV-k belföldi gyártására.

Augusztus elején japán kutatók (OIST) bejelentették egy egyszerűbb és olcsóbb EUV litográfiai gép sikeres fejlesztését. Továbbá ez az eszköz egyszerűbb felépítésű, mint a hagyományos ASML rendszer, például az optikai megvilágító tükrök számát a szokásos hat helyett mindössze kettőre csökkentette.

Egyszerűbb kialakításának és az ASML berendezéseihez képest alacsonyabb költségének köszönhetően az új EUV gép, ha tömeggyártásra kerül, átalakíthatja a chipöntödei ipart, ezáltal hatással lehet a teljes félvezetőiparra.

Továbbá a gép egyik előnye a megnövekedett megbízhatóság és a csökkentett karbantartási igény. Az új rendszer erőssége a jelentősen csökkent energiafogyasztás is.

Az optimalizált fényútnak köszönhetően a rendszer mindössze 20 W-os EUV fényforrással működik, így a teljes energiafogyasztás 100 kW alatt van. Ezzel szemben a hagyományos EUV rendszerek jellemzően több mint 1 MW teljesítményt igényelnek.

Az OIST szabadalmi bejelentést nyújtott be a technológiára, és kijelentette, hogy folytatja az EUV litográfiai gép fejlesztését a gyakorlati alkalmazások érdekében. A globális EUV gépek piaca várhatóan a 2024-es 8,9 milliárd dollárról 2030-ra 17,4 milliárd dollárra fog növekedni.

(A Fortune és a Bloomberg szerint)