ຄວາມກ້າວໜ້າຈາກບໍລິສັດຍັກໃຫຍ່ດ້ານຊິບ.

ASML ໄດ້ເປີດເຜີຍເປັນຄັ້ງທຳອິດກ່ຽວກັບຄວາມກ້າວໜ້າທີ່ສຳຄັນໃນເຕັກໂນໂລຊີແຫຼ່ງກຳເນີດແສງ EUV, ເຊິ່ງເປັນພື້ນຖານທີ່ສາມາດຊ່ວຍບໍລິສັດເຄິ່ງຕົວນຳເພີ່ມການຜະລິດຊິບໄດ້ຢ່າງຫຼວງຫຼາຍພາຍໃນທ້າຍທົດສະວັດນີ້.

ASML ໄດ້ສ້າງຄວາມກ້າວໜ້າໃໝ່ໃນເຕັກໂນໂລຊີ EUV. ຮູບພາບ: ASML .

ບໍລິສັດ ASML ໄດ້ປະກາດວ່າ ຕົນມີຄວາມຄືບໜ້າຢ່າງຫຼວງຫຼາຍໃນເຕັກໂນໂລຊີແຫຼ່ງແສງສະຫວ່າງສຳລັບເຄື່ອງຈັກພິມດ້ວຍແສງ ultraviolet (EUV) ເຊິ່ງສາມາດເພີ່ມການຜະລິດຊິບໄດ້ເຖິງ 50% ພາຍໃນທ້າຍທົດສະວັດນີ້. ການປະກາດດັ່ງກ່າວໄດ້ມີຂຶ້ນໃນວັນທີ 23 ກຸມພາ.

ບໍລິສັດເທັກໂນໂລຢີຍັກໃຫຍ່ຂອງໂຮນລັງປະຈຸບັນແມ່ນຜູ້ຜະລິດເຄື່ອງຈັກ EUV ທາງການຄ້າພຽງຜູ້ດຽວ ໃນໂລກ , ເຊິ່ງເປັນອົງປະກອບຫຼັກໃນການຜະລິດຊິບຂັ້ນສູງທີ່ໃຊ້ໂດຍບໍລິສັດເຄິ່ງຕົວນຳທີ່ໃຫຍ່ທີ່ສຸດເຊັ່ນ TSMC ແລະ Intel. ເທັກໂນໂລຢີ EUV ຖືກຖືວ່າເປັນ "ຫົວໃຈ" ຂອງຂະບວນການພິມແຜງວົງຈອນໃນລຸ້ນເຄິ່ງຕົວນຳທີ່ທັນສະໄໝ.

ອີງຕາມນັກຄົ້ນຄວ້າ ASML, ບໍລິສັດໄດ້ພົບເຫັນວິທີການເພີ່ມພະລັງງານຂອງແຫຼ່ງແສງສະຫວ່າງ EUV ຂອງຕົນຈາກ 600 ວັດໃນປະຈຸບັນເປັນ 1,000 ວັດ. Michael Purvis, ຊ່າງເຕັກນິກແຫຼ່ງແສງສະຫວ່າງ EUV ຊັ້ນນໍາຂອງ ASML, ກ່າວວ່າລະບົບໃໝ່ບໍ່ພຽງແຕ່ເປັນການທົດລອງໄລຍະສັ້ນເທົ່ານັ້ນ; ມັນຕອບສະໜອງຄວາມຕ້ອງການດ້ານການດຳເນີນງານຢູ່ສະຖານທີ່ຂອງລູກຄ້າໄດ້ຢ່າງເຕັມທີ່.

"ນີ້ແມ່ນລະບົບທີ່ສາມາດເພີ່ມພະລັງງານໄດ້ເຖິງ 1,000 ວັດດ້ວຍຄວາມຕ້ອງການທັງໝົດຄືກັນກັບທີ່ທ່ານເຫັນ," Purvis ກ່າວຢູ່ໂຮງງານ ASML ໃນລັດຄາລິຟໍເນຍ.

ຜົນຜະລິດພະລັງງານທີ່ສູງຂຶ້ນຊ່ວຍໃຫ້ເວລາການສຳຜັດສັ້ນລົງເມື່ອພິມຊິບໃສ່ແຜ່ນຊິລິໂຄນທີ່ເຄືອບດ້ວຍໂຟໂຕຣີຊິດ, ດັ່ງນັ້ນຈຶ່ງເພີ່ມຈຳນວນຊິບທີ່ຜະລິດຕໍ່ຊົ່ວໂມງ ແລະ ຫຼຸດຜ່ອນຕົ້ນທຶນຕໍ່ໜ່ວຍ. ອີງຕາມທ່ານ Teun Van Gogh, ຮອງປະທານບໍລິຫານຂອງ ASML, ເປົ້າໝາຍຂອງບໍລິສັດແມ່ນເພື່ອຊ່ວຍໃຫ້ລູກຄ້າສືບຕໍ່ໃຊ້ EUV ໃນລາຄາທີ່ຕໍ່າກວ່າຢ່າງຫຼວງຫຼາຍ.

ທ່ານ Van Gogh ໄດ້ກ່າວວ່າ ໃນຕອນທ້າຍຂອງທົດສະວັດນີ້, ແຕ່ລະເຄື່ອງ EUV ສາມາດປະມວນຜົນເວເຟີໄດ້ປະມານ 330 ແຜ່ນຕໍ່ຊົ່ວໂມງ, ເພີ່ມຂຶ້ນຈາກ 220 ແຜ່ນໃນປະຈຸບັນ. ຂຶ້ນກັບຂະໜາດ, ແຕ່ລະແຜ່ນສາມາດບັນຈຸຊິບໄດ້ຕັ້ງແຕ່ສອງສາມສິບຫາຫຼາຍພັນຊິບ.

ເຕັກໂນໂລຊີ EUV ມີຄວາມຊັບຊ້ອນຫຼາຍຈົນກາຍເປັນຈຸດໃຈກາງຂອງການແຂ່ງຂັນ ທາງພູມິສາດການເມືອງ . ລັດຖະບານສະຫະລັດໄດ້ປະສານງານກັບເນເທີແລນເພື່ອຈຳກັດການສົ່ງອອກອຸປະກອນ EUV ໄປຍັງຈີນ. ໃນຂະນະດຽວກັນ, ຈີນກຳລັງຊຸກຍູ້ຄວາມພະຍາຍາມຂອງຕົນເພື່ອພັດທະນາເຕັກໂນໂລຊີທີ່ຄ້າຍຄືກັນພາຍໃນປະເທດ.

ໃນສະຫະລັດ, ບໍລິສັດ startup ເຊັ່ນ Substrate ແລະ xLight ໄດ້ລະດົມທຶນຫຼາຍຮ້ອຍລ້ານໂດລາເພື່ອສະແຫວງຫາວິທີແກ້ໄຂທີ່ແຂ່ງຂັນ, ໂດຍ xLight ໄດ້ຮັບທຶນ ຈາກລັດຖະບານ ພາຍໃຕ້ການນຳພາຂອງປະທານາທິບໍດີ Donald Trump.

ASML ເປັນຜູ້ສະໜອງເຄື່ອງຈັກ EUV ທາງການຄ້າທົ່ວໂລກແຕ່ພຽງຜູ້ດຽວ. ຮູບພາບ: ASML .

ເພື່ອສ້າງແສງ EUV ທີ່ມີຄວາມຍາວຄື້ນ 13.5 nm, ເຄື່ອງຈັກຂອງ ASML ຈະຍິງຢອດຂອງກົ່ວທີ່ລະລາຍເຂົ້າໄປໃນຫ້ອງສູນຍາກາດ, ບ່ອນທີ່ພວກມັນຖືກໃຫ້ຄວາມຮ້ອນໂດຍເລເຊີ CO2 ເຂົ້າໄປໃນພລາສມາ, ເຊິ່ງເປັນສະຖານະທີ່ມີຄວາມຮ້ອນສູງທີ່ປ່ອຍແສງ EUV. ຫຼັງຈາກນັ້ນ, ແສງນີ້ຈະຖືກເກັບກຳ ແລະ ນຳພາໂດຍລະບົບເລເຊີທີ່ມີຄວາມແມ່ນຍຳສູງທີ່ສະໜອງໃຫ້ໂດຍ Carl Zeiss AG (ເຢຍລະມັນ) ເພື່ອພິມວົງຈອນໃສ່ແຜ່ນເວເຟີ.

ຄວາມກ້າວໜ້າໃໝ່ນີ້ລວມມີການເພີ່ມຈຳນວນຢອດນ້ຳຕານກົ່ວສອງເທົ່າເປັນປະມານ 100,000 ຢອດຕໍ່ວິນາທີ, ແລະ ການໃຊ້ກຳມະຈອນເລເຊີຂະໜາດນ້ອຍສອງອັນເພື່ອສ້າງຮູບຮ່າງຂອງພລາສມາແທນທີ່ຈະເປັນກຳມະຈອນດຽວຄືແຕ່ກ່ອນ.

ທ່ານ Jorge J. Rocca, ອາຈານສອນຢູ່ມະຫາວິທະຍາໄລລັດ Colorado, ໄດ້ໃຫ້ຄວາມເຫັນວ່າການບັນລຸຜົນຜະລິດພະລັງງານ 1,000 ວັດແມ່ນ "ໜ້າປະທັບໃຈຫຼາຍ," ເຊິ່ງເນັ້ນໃຫ້ເຫັນເຖິງສິ່ງທ້າທາຍດ້ານວິສະວະກຳທີ່ສຳຄັນຂອງເທັກໂນໂລຢີນີ້.

ASML ລະບຸວ່າເຕັກນິກໃໝ່ນີ້ເປີດທາງໃຫ້ເພີ່ມຜົນຜະລິດພະລັງງານເປັນ 1,500 ວັດ, ຫຼືແມ່ນແຕ່ 2,000 ວັດໃນອະນາຄົດ. ສິ່ງນີ້ຈະຊ່ວຍເສີມສ້າງຄວາມໄດ້ປຽບຂອງບໍລິສັດໃນການແຂ່ງຂັນເຕັກໂນໂລຊີເຄິ່ງຕົວນຳທົ່ວໂລກ.

ແຫຼ່ງຂໍ້ມູນ: https://znews.vn/asml-tiep-tuc-cung-co-vi-the-post1630130.html