O novo centro, denominado Acelerador EUV, localizado no Albany NanoTech Complex em Nova Iorque, é a primeira instalação de pesquisa e desenvolvimento (P&D) estabelecida sob os auspícios da Lei CHIPS.

Com o objetivo de impulsionar a indústria de semicondutores dos EUA, o Acelerador EUV será equipado com maquinário de fabricação de chips de última geração, permitindo que pesquisadores da indústria colaborem com parceiros universitários de treinamento.

"Quando pesquisas avançadas são conduzidas nos Estados Unidos, seremos capazes de criar os chips mais avançados do mundo, dando às nossas forças armadas uma vantagem", disse o senador Schumer. "É claro que isso também garante que a economia e as empresas americanas tenham uma vantagem em semicondutores avançados."

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Os países estão correndo contra o tempo para encontrar maneiras de resolver o gargalo da ASML. Foto: Bloomberg.

Entretanto, o governo dos EUA considera a EUV uma tecnologia crucial na produção de chips avançados e pretende dominá-la.

Washington argumenta ainda que o acesso, a pesquisa e o desenvolvimento de EUVs são essenciais para expandir a posição de liderança dos Estados Unidos, reduzir o tempo e os custos de prototipagem e construir e manter um ecossistema de força de trabalho na indústria de semicondutores.

Quando estiver em funcionamento, espera-se que o Acelerador EUV se concentre no desenvolvimento de EUVs digitais avançados de alta abertura, bem como na pesquisa de outras tecnologias baseadas em EUV.

Espera-se que o centro forneça acesso à tecnologia EUV NA padrão no próximo ano e à tecnologia EUV High-NA em 2026 para membros do Centro Nacional de Tecnologia de Semicondutores dos EUA (NTSC) e da Natcast.

"O lançamento do centro representa um marco significativo para garantir que os Estados Unidos continuem sendo líderes globais em inovação de semicondutores", disse Gina Raimondo, Secretária de Comércio dos EUA, em um comunicado.

Em fevereiro, o governo Biden anunciou financiamento para a fabricante de chips GlobalFoundries, visando impulsionar a expansão da produção no norte de Albany e em Vermont. Em abril, os EUA anunciaram ainda um pacote de US$ 6,1 bilhões para a Micron, para a fabricação de chips de memória avançados.

A fotolitografia é o processo de impressão de diagramas de circuitos na superfície fotossensível de uma pastilha de silício, através da projeção de um feixe de luz sobre a pastilha de silício através de um disco de vidro previamente desenhado com o diagrama do circuito.

Quanto menor o circuito, mais ele requer fontes de luz com comprimentos de onda mais curtos, sendo a luz ultravioleta extrema (EUV) o desenvolvimento mais avançado disponível atualmente.

Ao longo dos anos, a ASML deteve um "monopólio" no fornecimento de máquinas de litografia, transformando a empresa holandesa em um "gargalo" na cadeia de suprimentos de semicondutores.

Segundo o SCMP, a TSMC e a ASML possuem um método para desativar remotamente os equipamentos de suas fábricas de chips em caso de crise geopolítica .

Essas fábricas de chips também são um foco de disputa entre Washington e Pequim. A ASML atualmente vende sua máquina EUV High-NA mais avançada por US$ 380 milhões, tendo entregue a primeira unidade à Intel no início deste ano e a segunda a um "cliente não identificado".

Não apenas os EUA, mas outros elos da cadeia de suprimentos global de semicondutores também estão se esforçando para produzir EUVs internamente.

No início de agosto, pesquisadores japoneses (OIST) anunciaram o desenvolvimento bem-sucedido de uma máquina de litografia EUV mais simples e barata. Além disso, este dispositivo possui um design mais simples do que o sistema ASML convencional, por exemplo, reduzindo o número de espelhos ópticos de iluminação para apenas dois, em vez dos seis padrão.

Com seu design mais simples e custo mais baixo em comparação com os equipamentos da ASML, a nova máquina EUV, se produzida em massa, poderá remodelar a indústria de fabricação de chips, impactando assim toda a indústria de semicondutores.

Além disso, uma das vantagens da máquina é o aumento da confiabilidade e a redução da complexidade de manutenção. O consumo de energia significativamente reduzido também é um ponto forte do novo sistema.

Graças ao caminho óptico otimizado, o sistema opera com uma fonte de luz EUV de apenas 20 W, resultando em um consumo total de energia inferior a 100 kW. Em contraste, os sistemas EUV tradicionais normalmente requerem mais de 1 MW de potência.

OIST apresentou um pedido de patente para a tecnologia e afirmou que continuará a desenvolver a máquina de litografia EUV para aplicações práticas. Prevê-se que o mercado global de máquinas EUV cresça de US$ 8,9 bilhões em 2024 para US$ 17,4 bilhões em 2030.

(Segundo a Fortune e a Bloomberg)