Компания ASML недавно подтвердила, что находится на пути к запуску литографической системы следующего поколения Twinscan NXE. Эта система оснащена источником питания EUV мощностью 1000 Вт и может обрабатывать до 330 полупроводниковых пластин в час.
Ожидается, что эта машина, запуск которой запланирован на 2030 год или позже, будет обладать более чем на 50% большей мощностью, чем самые передовые доступные в настоящее время установки EUV. Эти устройства помогут производителям микросхем значительно повысить производительность и минимизировать стоимость одного полупроводникового диска. Однако для реализации этой амбиции компании ASML пришлось преодолеть ряд трудностей и добиться значительных технологических успехов.
Представители технологической команды ASML заявили, что достижение мощности в один киловатт — это невероятно впечатляющее достижение. Компания даже видит четкий путь развития до 1500 ватт и считает, что достижение 2000 ватт вполне возможно в будущем.
Для создания источника УФ-излучения мощностью 1000 ватт в течение следующего десятилетия компании ASML пришлось разработать совершенно новый метод генерации света с использованием трех лазерных импульсов. Этот метод включает в себя первый суб-импульс для сплющивания капель олова, второй суб-импульс для их расширения и, наконец, основной лазерный импульс, который преобразует эти капли олова в плазменное состояние для излучения УФ-излучения.
Кроме того, новая система будет оснащена усовершенствованным генератором капель олова, что удвоит производительность до 100 000 капель олова в секунду.
Однако увеличение количества капель олова означает, что будет выбрасываться больше мусора. Поэтому для обеспечения абсолютной чистоты поверхности полупроводникового диска системе требуется совершенно новый пылесборник.
Кроме того, генерировать 1000 ватт излучения сложно, но передать эту энергию на полупроводниковый диск еще сложнее. Поэтому компания ASML разработала совершенно новую оптическую линзовую систему с высокой светопропускаемостью, предназначенную для масштабирования возможностей обработки до более чем 450 полупроводниковых дисков в час.
Для повышения светоотдачи также требуется комплексная модернизация систем крепления и перемещения полупроводниковых пластин.
Для этого мощного источника света требуются химические фоторезисты нового поколения и защитные пленки. Это означает, что не только ASML, но и вся экосистема индустрии производства микросхем должна быть готова к появлению этих новых инструментов.
В настоящее время ASML имеет подробные планы по включению источника света мощностью 1000 ватт в свою продуктовую линейку. Ожидается, что следующее поколение литографических машин будет запущено последовательно в период с 2027 по 2029 год.
Источник: https://baophapluat.vn/cong-nghe-giup-tang-50-san-luong-chip.html
Комментарий (0)