פריצת דרך של ענקית השבבים.

ASML חשפה לראשונה התקדמות מרכזית בטכנולוגיית מקורות אור EUV, בסיס שעשוי לסייע לחברות מוליכים למחצה להגדיל משמעותית את ייצור השבבים עד סוף העשור הנוכחי.

ASML עשתה פריצת דרך חדשה בטכנולוגיית EUV. צילום: ASML .

ASML הודיעה כי עשתה התקדמות משמעותית בטכנולוגיית מקורות אור עבור מכונות ליתוגרפיה בעלות קרינה אולטרה סגולה קיצונית (EUV), דבר שעשוי להגביר את ייצור השבבים בעד 50% עד סוף העשור הנוכחי. ההודעה פורסמה ב-23 בפברואר.

ענקית הטכנולוגיה ההולנדית היא כיום היצרנית היחידה בעולם של מכונות EUV מסחריות, מרכיב מפתח בייצור שבבים מתקדם המשמש את חברות המוליכים למחצה הגדולות ביותר כמו TSMC ואינטל. טכנולוגיית EUV נחשבת ל"לב" תהליך הדפסת מעגלים בדורות המודרניים של מוליכים למחצה.

על פי חוקרי ASML, החברה מצאה דרך להגדיל את עוצמת מקור האור EUV שלה מ-600 וואט הנוכחי ל-1,000 וואט. מייקל פורוויס, טכנאי מקורות האור EUV הראשי של ASML, אמר שהמערכת החדשה אינה רק ניסוי לטווח קצר; היא עונה באופן מלא על הדרישות התפעוליות במתקן הלקוח.

"זוהי מערכת שיכולה להגדיל את ההספק עד 1,000 וואט עם כל אותן דרישות כפי שאתם יכולים לראות", אמר פרוויס במפעל ASML בקליפורניה.

תפוקת הספק גבוהה יותר מאפשרת זמני חשיפה קצרים יותר בעת הדפסת שבבים על פרוסות סיליקון מצופות פוטורזיסט, ובכך מגדילה את מספר השבבים המיוצרים בשעה ומפחיתה את העלות ליחידה. לדברי טאון ואן גוך, סגן נשיא בכיר ב-ASML, מטרת החברה היא לעזור ללקוחות להמשיך להשתמש ב-EUV בעלויות נמוכות משמעותית.

מר ואן גוך הצהיר שעד סוף העשור הנוכחי, כל מכונת EUV תוכל לעבד כ-330 פרוסות סיליקון בשעה, לעומת 220 כיום. בהתאם לגודל, כל פרוסה עשויה להכיל בין כמה עשרות לאלפי שבבים.

טכנולוגיית EUV כה מורכבת עד שהיא הפכה למוקד של תחרות גיאופוליטית . ממשלת ארה"ב תיאמה עם הולנד כדי להגביל את ייצוא ציוד EUV לסין. בינתיים, סין מקדמת את מאמציה לפתח טכנולוגיה דומה מקומית.

בארה"ב, סטארט-אפים כמו Substrate ו-xLight גייסו מאות מיליוני דולרים כדי לחפש פתרונות תחרותיים, כאשר xLight קיבלה מימון ממשלתי תחת הנשיא דונלד טראמפ.

ASML היא הספקית הגלובלית הבלעדית של מכונות EUV מסחריות. צילום: ASML .

כדי לייצר אור EUV באורך גל של 13.5 ננומטר, המכונה של ASML יורה טיפות של בדיל מותך לתוך תא ואקום, שם הן מחוממות על ידי לייזר CO2 לפלזמה, מצב מחומם במיוחד הפולט אור EUV. אור זה נאסף ומכוון לאחר מכן על ידי מערכת אופטיקה מדויקת המסופקת על ידי Carl Zeiss AG (גרמניה) כדי להדפיס את המעגל על ​​פרוסת סיליקון.

ההתקדמויות החדשות כוללות הכפלת מספר טיפות הבדיל לכ-100,000 טיפות לשנייה, ושימוש בשתי פולסי לייזר קטנים לעיצוב הפלזמה במקום פולס בודד כמו בעבר.

חורחה ג'יי רוקה, פרופסור באוניברסיטת קולורדו סטייט, ציין כי השגת תפוקת חשמל של 1,000 וואט היא "מרשימה מאוד", מה שמדגיש את האתגר ההנדסי המשמעותי של טכנולוגיה זו.

ASML הצהירה כי הטכניקות החדשות סוללות את הדרך להגדלת תפוקת ההספק ל-1,500 וואט, או אפילו 2,000 וואט בעתיד. זה יחזק את יתרונה של החברה במרוץ הטכנולוגיה העולמי של מוליכים למחצה.

מקור: https://znews.vn/asml-tiep-tuc-cung-co-vi-the-post1630130.html