របកគំហើញមួយពីក្រុមហ៊ុនយក្សផលិតបន្ទះឈីប។

ASML បានបង្ហាញជាលើកដំបូងនូវវឌ្ឍនភាពដ៏សំខាន់មួយនៅក្នុងបច្ចេកវិទ្យាប្រភពពន្លឺ EUV ដែលជាមូលដ្ឋានគ្រឹះមួយដែលអាចជួយក្រុមហ៊ុនផលិតបន្ទះឈីប semiconductor បង្កើនការផលិតបន្ទះឈីបយ៉ាងច្រើននៅចុងទសវត្សរ៍នេះ។

ASML សម្រេចបាននូវរបកគំហើញថ្មីមួយនៅក្នុងបច្ចេកវិទ្យា EUV។ រូបថត៖ ASML ។

ក្រុមហ៊ុន ASML បានប្រកាសថា ខ្លួនសម្រេចបានវឌ្ឍនភាពគួរឱ្យកត់សម្គាល់ក្នុងបច្ចេកវិទ្យាប្រភពពន្លឺសម្រាប់ម៉ាស៊ីនបោះពុម្ពលីតូក្រាហ្វីអ៊ុលត្រាវីយូឡេខ្លាំង (EUV) ដែលអាចជំរុញការផលិតបន្ទះឈីបរហូតដល់ 50% នៅចុងទសវត្សរ៍នេះ។ ការប្រកាសនេះត្រូវបានធ្វើឡើងនៅថ្ងៃទី 23 ខែកុម្ភៈ។

ក្រុមហ៊ុនបច្ចេកវិទ្យាយក្សហូឡង់បច្ចុប្បន្នគឺជាក្រុមហ៊ុនផលិតម៉ាស៊ីន EUV ពាណិជ្ជកម្មតែមួយគត់ របស់ពិភពលោក ដែលជាសមាសធាតុសំខាន់ក្នុងការផលិតបន្ទះឈីបកម្រិតខ្ពស់ដែលប្រើប្រាស់ដោយក្រុមហ៊ុនផលិតបន្ទះឈីប semiconductor ធំជាងគេដូចជា TSMC និង Intel។ បច្ចេកវិទ្យា EUV ត្រូវបានចាត់ទុកថាជា "បេះដូង" នៃដំណើរការបោះពុម្ពបន្ទះសៀគ្វីនៅក្នុងជំនាន់ semiconductor ទំនើបៗ។

យោងតាមអ្នកស្រាវជ្រាវ ASML ក្រុមហ៊ុនបានរកឃើញវិធីមួយដើម្បីបង្កើនថាមពលនៃប្រភពពន្លឺ EUV របស់ខ្លួនពី 600 វ៉ាត់បច្ចុប្បន្នដល់ 1,000 វ៉ាត់។ លោក Michael Purvis អ្នកបច្ចេកទេសប្រភពពន្លឺ EUV ឈានមុខគេរបស់ ASML បាននិយាយថា ប្រព័ន្ធថ្មីនេះមិនមែនគ្រាន់តែជាការពិសោធន៍រយៈពេលខ្លីនោះទេ។ វាបំពេញតាមតម្រូវការប្រតិបត្តិការនៅរោងចក្ររបស់អតិថិជនយ៉ាងពេញលេញ។

លោក Purvis បាន​មានប្រសាសន៍​នៅ​រោងចក្រ ASML នៅ​រដ្ឋ California ថា “នេះ​គឺជា​ប្រព័ន្ធ​មួយ​ដែល​អាច​បង្កើន​ថាមពល​រហូតដល់ 1,000 វ៉ាត់ ជាមួយនឹង​តម្រូវការ​ដូចគ្នា​ទាំងអស់​ដូច​ដែល​អ្នក​អាច​ឃើញ”។

ទិន្នផលថាមពលខ្ពស់អនុញ្ញាតឱ្យមានពេលវេលាប៉ះពាល់ខ្លីជាងមុននៅពេលបោះពុម្ពបន្ទះឈីបលើបន្ទះស៊ីលីកុនដែលស្រោបដោយ photoresist ដោយហេតុនេះបង្កើនចំនួនបន្ទះឈីបដែលផលិតក្នុងមួយម៉ោង និងកាត់បន្ថយថ្លៃដើមក្នុងមួយឯកតា។ យោងតាមលោក Teun Van Gogh អនុប្រធានប្រតិបត្តិនៅ ASML គោលដៅរបស់ក្រុមហ៊ុនគឺដើម្បីជួយអតិថិជនបន្តប្រើប្រាស់ EUV ក្នុងតម្លៃទាបជាងគួរឱ្យកត់សម្គាល់។

លោក Van Gogh បានថ្លែងថា នៅចុងទសវត្សរ៍នេះ ម៉ាស៊ីន EUV នីមួយៗអាចដំណើរការបន្ទះសៀគ្វីប្រហែល 330 ក្នុងមួយម៉ោង ដែលកើនឡើងពី 220 បច្ចុប្បន្ន។ អាស្រ័យលើទំហំ បន្ទះសៀគ្វីនីមួយៗអាចផ្ទុកបន្ទះឈីបចាប់ពីពីរបីដប់ទៅរាប់ពាន់។

បច្ចេកវិទ្យា EUV មានភាពស្មុគស្មាញខ្លាំង ដែលវាបានក្លាយជាចំណុចកណ្តាលនៃការប្រកួតប្រជែង ខាងភូមិសាស្ត្រនយោបាយ ។ រដ្ឋាភិបាលសហរដ្ឋអាមេរិកបានសម្របសម្រួលជាមួយប្រទេសហូឡង់ ដើម្បីរឹតបន្តឹងការនាំចេញឧបករណ៍ EUV ទៅកាន់ប្រទេសចិន។ ទន្ទឹមនឹងនេះ ប្រទេសចិនកំពុងជំរុញកិច្ចខិតខំប្រឹងប្រែងរបស់ខ្លួន ដើម្បីអភិវឌ្ឍបច្ចេកវិទ្យាស្រដៀងគ្នានេះនៅក្នុងស្រុក។

នៅសហរដ្ឋអាមេរិក ក្រុមហ៊ុនចាប់ផ្តើមអាជីវកម្មដូចជា Substrate និង xLight បានរៃអង្គាសប្រាក់រាប់រយលានដុល្លារដើម្បីស្វែងរកដំណោះស្រាយប្រកួតប្រជែង ដោយ xLight ទទួលបានមូលនិធិ ពីរដ្ឋាភិបាល ក្រោមការដឹកនាំរបស់ប្រធានាធិបតី ដូណាល់ ត្រាំ។

ASML គឺជាអ្នកផ្គត់ផ្គង់ផ្តាច់មុខសកលនៃម៉ាស៊ីន EUV ពាណិជ្ជកម្ម។ រូបថត៖ ASML ។

ដើម្បីបង្កើតពន្លឺ EUV ដែលមានរលកពន្លឺ 13.5 nm ម៉ាស៊ីនរបស់ ASML បាញ់ដំណក់ទឹកនៃសំណប៉ាហាំងរលាយចូលទៅក្នុងបន្ទប់សុញ្ញកាស ជាកន្លែងដែលវាត្រូវបានកំដៅដោយឡាស៊ែរ CO2 ចូលទៅក្នុងប្លាស្មា ដែលជាស្ថានភាពឡើងកំដៅខ្លាំងដែលបញ្ចេញពន្លឺ EUV។ បន្ទាប់មក ពន្លឺនេះត្រូវបានប្រមូល និងដឹកនាំដោយប្រព័ន្ធអុបទិកដែលមានភាពជាក់លាក់ខ្ពស់ដែលផ្គត់ផ្គង់ដោយ Carl Zeiss AG (អាល្លឺម៉ង់) ដើម្បីបោះពុម្ពសៀគ្វីទៅលើបន្ទះសៀគ្វី។

ការរីកចម្រើនថ្មីៗរួមមានការបង្កើនចំនួនដំណក់ទឹកសំណប៉ាហាំងទ្វេដងដល់ប្រហែល 100,000 ដំណក់ទឹកក្នុងមួយវិនាទី និងការប្រើប្រាស់ជីពចរឡាស៊ែរតូចៗពីរដើម្បីបង្កើតរូបរាងប្លាស្មាជំនួសឱ្យជីពចរតែមួយដូចពីមុន។

លោក Jorge J. Rocca សាស្ត្រាចារ្យនៅសាកលវិទ្យាល័យរដ្ឋ Colorado បានអត្ថាធិប្បាយថា ការសម្រេចបាននូវទិន្នផលថាមពល 1,000 វ៉ាត់គឺ "គួរឱ្យចាប់អារម្មណ៍ខ្លាំងណាស់" ដែលបង្ហាញពីបញ្ហាប្រឈមផ្នែកវិស្វកម្មដ៏សំខាន់នៃបច្ចេកវិទ្យានេះ។

ASML បានបញ្ជាក់ថា បច្ចេកទេសថ្មីៗទាំងនេះបើកផ្លូវឱ្យបង្កើនទិន្នផលថាមពលដល់ 1,500 វ៉ាត់ ឬសូម្បីតែ 2,000 វ៉ាត់នាពេលអនាគត។ នេះនឹងពង្រឹងគុណសម្បត្តិរបស់ក្រុមហ៊ុនក្នុងការប្រណាំងប្រជែងបច្ចេកវិទ្យាស៊ីមីកុងដុកទ័រសកល។

ប្រភព៖ https://znews.vn/asml-tiep-tuc-cung-co-vi-the-post1630130.html