미국은 ASML의 독점을 깨뜨리려 하고 있다.

미국 정부는 ASML의 독점을 깨뜨리기 위해 극자외선(EUV) 리소그래피 장비 연구 개발 센터 건립에 8억 2500만 달러의 자금 지원을 승인했습니다.

뉴욕주 올버니 나노기술 단지에 위치한 EUV 가속기라는 새로운 센터는 CHIPS 법에 따라 설립된 최초의 연구 개발(R&D) 시설입니다.

미국 반도체 산업 활성화를 목표로 하는 EUV 가속기는 최첨단 칩 제조 설비를 갖추어 산업 연구원들이 대학 교육 파트너와 협력할 수 있도록 지원할 것입니다.

"미국에서 첨단 연구가 진행되면 세계에서 가장 앞선 칩을 개발할 수 있게 되어 우리 군 의 경쟁력을 강화할 수 있을 것입니다."라고 슈머 상원의원은 말했습니다. "물론 이는 미국 경제와 기업들이 첨단 반도체 분야에서 우위를 점할 수 있도록 보장해 줄 것입니다."

각국은 ASML의 병목 현상을 해소할 방법을 찾기 위해 경쟁하고 있다. 사진: 블룸버그.

한편, 미국 정부는 EUV를 첨단 칩 생산에 필수적인 기술로 간주하고 있으며, 이 기술을 완전히 장악하는 것을 목표로 하고 있습니다.

워싱턴은 또한 EUV에 대한 접근, 연구 및 개발이 미국의 선도적 지위를 확대하고, 시제품 제작 시간과 비용을 줄이며, 반도체 인력 생태계를 구축하고 유지하는 데 필수적이라고 주장합니다.

EUV 가속기가 가동되면 첨단 고개구부 디지털 EUV 개발과 기타 EUV 기반 기술 연구에 중점을 둘 것으로 예상됩니다.

이 센터는 내년에 표준 EUV NA에 대한 접근 권한을, 2026년에는 EUV High-NA에 대한 접근 권한을 미국 국립 반도체 기술 센터(NTSC) 및 Natcast 회원들에게 제공할 예정입니다.

지나 라이몬도 미국 상무장관은 성명에서 "이 센터의 출범은 미국이 반도체 혁신 분야에서 세계적인 선두 자리를 유지하는 데 중요한 이정표가 될 것"이라고 밝혔습니다.

지난 2월, 바이든 행정부는 반도체 제조업체인 글로벌파운드리스(GlobalFoundries)에 자금을 지원하여 뉴욕주 올버니 북부와 버몬트주에서 생산 확대를 추진하겠다고 발표했습니다. 4월에는 마이크론(Micron)의 첨단 메모리 칩 생산을 위해 61억 달러 규모의 추가 지원책을 발표했습니다.

포토리소그래피는 회로도가 미리 그려진 유리 디스크를 통해 실리콘 웨이퍼에 빛을 비춰 회로도를 실리콘 웨이퍼의 감광성 표면에 인쇄하는 공정입니다.

회로가 작을수록 파장이 짧은 광원이 필요하며, 현재 가장 발전된 기술은 극자외선(EUV)입니다.

수년간 ASML은 리소그래피 장비 공급에 있어 "독점권"을 유지해 왔으며, 이로 인해 네덜란드 기업인 ASML은 반도체 공급망의 "병목 현상"을 초래했습니다.

SCMP에 따르면 TSMC와 ASML은 지정학적 위기 발생 시 원격으로 반도체 제조 설비를 무력화할 수 있는 방법을 보유하고 있다.

이러한 반도체 파운드리는 워싱턴과 베이징 간의 갈등의 온상이기도 합니다. ASML은 현재 가장 진보된 EUV 고해상도(High-NA) 장비를 3억 8천만 달러에 판매하고 있으며, 올해 초 인텔에 첫 번째 장비를 납품했고 두 번째 장비는 "비공개 고객"에게 납품했습니다.

미국뿐만 아니라 글로벌 반도체 공급망의 다른 국가들도 EUV를 국내에서 생산하기 위해 노력하고 있습니다.

8월 초, 일본 과학기술연구원(OIST) 연구진은 더욱 간편하고 저렴한 EUV 리소그래피 장비 개발에 성공했다고 발표했습니다. 이 장비는 기존 ASML 시스템보다 설계가 간소화되었으며, 예를 들어 광학 조명 거울의 개수를 표준 6개에서 단 2개로 줄였습니다.

ASML의 장비에 비해 설계가 단순하고 비용이 저렴한 이 새로운 EUV 장비는 양산될 경우 칩 파운드리 산업을 재편하고 전체 반도체 산업에 큰 영향을 미칠 수 있습니다.

또한, 이 장비의 장점 중 하나는 신뢰성이 향상되고 유지보수 복잡성이 감소했다는 점입니다. 전력 소비량이 크게 줄어든 것 역시 새로운 시스템의 강점입니다.

최적화된 광경로 덕분에 이 시스템은 단 20W의 EUV 광원만으로 작동하여 총 전력 소비량이 100kW 미만입니다. 반면, 기존의 EUV 시스템은 일반적으로 1MW 이상의 전력을 필요로 합니다.

OIST는 해당 기술에 대한 특허 출원을 제출했으며, 실용적인 응용을 위해 EUV 리소그래피 장비 개발을 지속할 것이라고 밝혔습니다. 전 세계 EUV 장비 시장은 2024년 89억 달러에서 2030년 174억 달러로 성장할 것으로 예상됩니다.

(포춘지와 블룸버그에 따르면)

출처: https://vietnamnet.vn/my-tim-cach-pha-the-doc-quyen-cua-asml-2338672.html