Satu kejayaan besar daripada gergasi cip itu.

ASML telah mencapai satu kejayaan baharu dalam teknologi EUV. Foto: ASML .

ASML mengumumkan bahawa ia telah mencapai kemajuan yang ketara dalam teknologi sumber cahaya untuk mesin litografi ultraungu ekstrem (EUV), yang boleh meningkatkan pengeluaran cip sehingga 50% menjelang akhir dekad ini. Pengumuman itu dibuat pada 23 Februari.

Gergasi teknologi Belanda itu kini merupakan satu-satunya pengeluar mesin EUV komersial di dunia , komponen utama dalam pembuatan cip canggih yang digunakan oleh syarikat semikonduktor terbesar seperti TSMC dan Intel. Teknologi EUV dianggap sebagai "jantung" proses pencetakan papan litar dalam generasi semikonduktor moden.

Menurut penyelidik ASML, syarikat itu telah menemui cara untuk meningkatkan kuasa sumber cahaya EUVnya daripada 600 watt semasa kepada 1,000 watt. Michael Purvis, juruteknik sumber cahaya EUV utama ASML, berkata sistem baharu itu bukan sekadar eksperimen jangka pendek; ia memenuhi sepenuhnya keperluan operasi di kemudahan pelanggan.

"Ini adalah sistem yang boleh meningkatkan kuasa sehingga 1,000 watt dengan semua keperluan yang sama seperti yang anda lihat," kata Purvis di kilang ASML di California.

Output kuasa yang lebih tinggi membolehkan masa pendedahan yang lebih singkat apabila mencetak cip pada wafer silikon bersalut fotoresis, sekali gus meningkatkan bilangan cip yang dihasilkan sejam dan mengurangkan kos seunit. Menurut Teun Van Gogh, Naib Presiden Eksekutif di ASML, matlamat syarikat adalah untuk membantu pelanggan terus menggunakan EUV pada kos yang jauh lebih rendah.

Encik Van Gogh menyatakan bahawa menjelang akhir dekad ini, setiap mesin EUV boleh memproses kira-kira 330 wafer sejam, meningkat daripada 220 semasa. Bergantung pada saiznya, setiap wafer boleh mengandungi antara beberapa dozen hingga ribuan cip.

Teknologi EUV begitu kompleks sehingga ia telah menjadi tumpuan persaingan geopolitik . Kerajaan AS telah bekerjasama dengan Belanda untuk menyekat eksport peralatan EUV ke China. Sementara itu, China sedang berusaha untuk membangunkan teknologi serupa di dalam negara.

Di AS, syarikat baharu seperti Substrate dan xLight telah mengumpul ratusan juta dolar untuk mendapatkan penyelesaian yang kompetitif, dengan xLight menerima pembiayaan kerajaan di bawah Presiden Donald Trump.

ASML ialah pembekal global eksklusif mesin EUV komersial. Foto: ASML .

Untuk menjana cahaya EUV dengan panjang gelombang 13.5 nm, mesin ASML menembakkan titisan timah cair ke dalam ruang vakum, di mana ia dipanaskan oleh laser CO2 ke dalam plasma, keadaan lampau panas yang memancarkan cahaya EUV. Cahaya ini kemudiannya dikumpulkan dan diarahkan oleh sistem optik jitu yang dibekalkan oleh Carl Zeiss AG (Jerman) untuk mencetak litar pada wafer.

Kemajuan baharu ini termasuk menggandakan bilangan titisan timah kepada kira-kira 100,000 titisan sesaat dan menggunakan dua denyutan laser kecil untuk membentuk plasma dan bukannya satu denyutan seperti sebelumnya.

Jorge J. Rocca, seorang profesor di Universiti Negeri Colorado, mengulas bahawa mencapai output kuasa sebanyak 1,000 watt adalah "sangat mengagumkan," menonjolkan cabaran kejuruteraan yang ketara dalam teknologi ini.

ASML menyatakan bahawa teknik baharu ini membuka jalan untuk meningkatkan output kuasa kepada 1,500 watt, atau 2,000 watt pada masa hadapan. Ini akan mengukuhkan kelebihan syarikat dalam perlumbaan teknologi semikonduktor global.

Sumber: https://znews.vn/asml-tiep-tuc-cung-co-vi-the-post1630130.html