O descoperire de la gigantul cipurilor.

ASML a făcut o nouă descoperire în tehnologia EUV. Foto: ASML .

ASML a anunțat că a făcut progrese semnificative în tehnologia surselor de lumină pentru mașinile de litografie cu ultraviolete extreme (EUV), ceea ce ar putea crește producția de cipuri cu până la 50% până la sfârșitul acestui deceniu. Anunțul a fost făcut pe 23 februarie.

Gigantul tehnologic olandez este în prezent singurul producător mondial de mașini EUV comerciale, o componentă cheie în fabricarea de cipuri avansate utilizate de cele mai mari companii de semiconductori, precum TSMC și Intel. Tehnologia EUV este considerată „inima” procesului de imprimare a plăcilor de circuite în generațiile moderne de semiconductori.

Potrivit cercetătorilor ASML, compania a găsit o modalitate de a crește puterea sursei sale de lumină EUV de la 600 de wați în prezent la 1.000 de wați. Michael Purvis, tehnicianul principal pentru surse de lumină EUV de la ASML, a declarat că noul sistem nu este doar un experiment pe termen scurt; acesta îndeplinește pe deplin cerințele operaționale de la unitatea clientului.

„Acesta este un sistem care poate crește puterea până la 1.000 de wați cu aceleași cerințe, după cum puteți vedea”, a declarat Purvis la fabrica ASML din California.

Puterea de ieșire mai mare permite timpi de expunere mai scurți la imprimarea cipurilor pe napolitane de siliciu acoperite cu fotorezist, crescând astfel numărul de cipuri produse pe oră și reducând costul per unitate. Potrivit lui Teun Van Gogh, vicepreședinte executiv la ASML, obiectivul companiei este de a ajuta clienții să continue să utilizeze EUV la costuri semnificativ mai mici.

Dl. Van Gogh a declarat că până la sfârșitul acestui deceniu, fiecare mașină EUV ar putea procesa aproximativ 330 de napolitane pe oră, față de 220 câte sunt în prezent. În funcție de dimensiune, fiecare napolitană ar putea conține de la câteva zeci până la mii de cipuri.

Tehnologia EUV este atât de complexă încât a devenit un punct central al competiției geopolitice . Guvernul SUA s-a coordonat cu Olanda pentru a restricționa exportul de echipamente EUV către China. Între timp, China își intensifică eforturile de a dezvolta o tehnologie similară pe plan intern.

În SUA, startup-uri precum Substrate și xLight au strâns sute de milioane de dolari pentru a găsi soluții competitive, xLight primind finanțare guvernamentală în timpul mandatului președintelui Donald Trump.

ASML este furnizorul global exclusiv de mașini EUV comerciale. Foto: ASML .

Pentru a genera lumină EUV cu o lungime de undă de 13,5 nm, mașina ASML transmite picături de staniu topit într-o cameră de vid, unde acestea sunt încălzite de un laser CO2 în plasmă, o stare supraîncălzită care emite lumină EUV. Această lumină este apoi colectată și direcționată de un sistem optic de precizie furnizat de Carl Zeiss AG (Germania) pentru a imprima circuitul pe o plachetă.

Noile progrese includ dublarea numărului de picături de staniu la aproximativ 100.000 de picături pe secundă și utilizarea a două impulsuri laser mici pentru a modela plasma în loc de un singur impuls ca înainte.

Jorge J. Rocca, profesor la Universitatea de Stat din Colorado, a comentat că atingerea unei puteri de 1.000 de wați este „foarte impresionantă”, subliniind provocarea inginerească semnificativă a acestei tehnologii.

ASML a declarat că noile tehnici deschid calea către creșterea puterii de ieșire la 1.500 de wați sau chiar 2.000 de wați în viitor. Acest lucru va consolida avantajul companiei în cursa globală a tehnologiei semiconductorilor.

Sursă: https://znews.vn/asml-tiep-tuc-cung-co-vi-the-post1630130.html