Коли Крістоф Фуке проходив співбесіду на роботу в ASML у 2007 році, він зробив незвичайне прохання. Зокрема, він попросив призначити його на посаду на один рівень нижче, ніж пропонувала голландська компанія.
Фуке хотів заглибитися в технічні деталі новітніх машин для виробництва мікросхем, які ASML продає технологічним гігантам, таким як Intel та Samsung.
«Навіть сьогодні, коли ми зустрічаємося з нашими клієнтами, ми говоримо про дуже конкретні речі та маємо розуміти, що вони роблять. Ви повинні вміти пояснити, що ви робите, щоб вирішити їхню проблему. Ось чому я хотів витратити трохи часу на навчання», – поділився генеральний директор ASML у 2024 році.
Єдина компанія, здатна виробляти ці передові чіпи.
Компанія ASML, що базується у Вельдховені, Нідерланди, є лідером у галузі фотолітографії – використання високоточних світлових променів для друку дизайну мікросхем на кремнієвих напівпровідникових пластинах, що є вирішальним кроком у процесі виробництва мікросхем.
Вони відіграють вирішальну роль у ланцюжку поставок і є постачальником обладнання для провідних світових виробників мікросхем, таких як Samsung, Intel і особливо TSMC.
 |
Процес складання машини EUV. Фото: ASML. |
У той час як проектор може збільшувати зображення, машина ASML може зменшувати креслення мікросхем та друкувати їх на напівпровідникових пластинах, розмір яких у 10 000 разів менший за людську волосину.
Компанія змогла досягти цього завдяки тому, що вона була на передовій досліджень у застосуванні технології екстремального ультрафіолетового випромінювання (EUV), яка має надзвичайно коротку довжину хвилі і тому може створювати більше транзисторів на тій самій площі кристала.
Завдяки машині ASML створення потужніших чіпів у промислових масштабах стає можливим.
Фактично, можна стверджувати, що значна частина буму штучного інтелекту побудована на фундаменті цієї голландської компанії. За даними Bloomberg , частка ASML у найвищому сегменті цього ринку становить 100%, що перевищує частку Nvidia для чіпів штучного інтелекту та OpenAI для чат-ботів.
«Машини, вироблені ASML, кожна з них є одними з найскладніших пристроїв, коли-небудь створених в історії. Без них було б неможливо виробляти найсучасніші напівпровідники», — сказав Кріс Міллер, доцент Школи Флетчера при Університеті Тафтса.
Успіх ASML зумовлений ризикованою технологічною авантюрою, яка відбулася близько 30 років тому. У 1990-х роках японські компанії відмовилися від спроб створити EUV через високі витрати та ризики.
 |
Літографічна машина EUV від ASML вважається «чарівною паличкою» у виробництві напівпровідникових мікросхем. Фото: TNW. |
Тим часом ASML продовжувала існувати, маючи фінансову підтримку провідних виробників чіпів, таких як Intel, TSMC та Samsung.
Прорив стався, коли компанія створила технологію EUV з довжиною хвилі всього 13,5 нм, що значно менше за 193 нм попереднього покоління, шляхом випромінювання лазера на краплі розплавленого олова для створення плазми. Цей успіх збільшив частку ринку ASML у фотолітографії з менш ніж 40% до 90%.
Наступна амбіція
Якщо бум штучного інтелекту продовжиться, аналітики оптимістично прогнозують, що дохід ASML може зрости приблизно на 35% з цього року до 2027 року, перевищивши 50 мільярдів доларів і досягнувши ринкової капіталізації в 430 мільярдів доларів , що зробить її найціннішою компанією в Європі.
«Ми знаємо, що нам потрібно зробити для наших клієнтів протягом наступних 10-15 років. Краща літографія означає кращу роздільну здатність, точність і продуктивність. І, по суті, ми будемо працювати над цими трьома осями ще довго», – сказав Фуке.
Щоб реалізувати цю амбіцію, ASML потрібно буде перейти з технології EUV на літографію з високою числовою апертурою EUV.
Наразі ASML є єдиною компанією, здатною виробляти машини EUV, що дозволяє клієнтам переходити з 7-нм на 3-нм техпроцес, який зараз використовується Nvidia та Apple.
Очікується, що машини з високою числовою амплітудою (NA) EUV дозволять зменшити геометрію схем до менш ніж 2 нм. На кожному чіпі менший розмір схеми призведе до кращої продуктивності, меншого тепловиділення та меншого енергоспоживання.
Intel та інші клієнти тестують цю нову машину, що дозволить чіпу запускати більш просунуті програми штучного інтелекту.
 |
Очікується, що новітня літографічна машина ASML під назвою High NA EUV дозволить скоротити технологічні процеси виробництва мікросхем до менш ніж 2 нм. Фото: ASML. |
ASML планує масово виробляти машини з високою амплітудною амплітудою (Hiper NA) у 2027 та 2028 роках. Крім того, в рамках свого 10-річного плану голландська компанія очікує представити ще більш просунуту технологію під назвою Hyper NA.
Володіючи власною технологією для створення чіпів, що використовуються в пристроях штучного інтелекту та передовій зброї, легко зрозуміти, чому ASML вважається критично важливою інфраструктурою для національної безпеки США та бажаним активом для китайської технологічної промисловості.
Це також створює значний виклик для Фуке. Камери DUV (єдиний тип камер, який ASML продає Китаю) відстають від останніх камер з високою числовою апертурою на вісім поколінь. Це ризикує розчарувати китайську владу та спонукати її розробити власні альтернативні рішення.
«Китай не погодиться на відключення від технологій. Це лише тимчасова ситуація», – заявив генеральний директор ASML.
Однак, завдяки своїй унікальній технології, інтегрованому ланцюжку поставок та лояльним клієнтам, ASML вважається такою, що має найнадійніше монопольне становище в напівпровідниковій галузі.
Bloomberg припускає, що конкуренти, такі як китайська SMEE, все ще відстають щонайменше на 10-15 років. Єдиними реальними перешкодами для ASML зараз будуть технологічні обмеження, здатність виробляти обладнання та проблеми економії коштів у масовому виробництві.
Джерело: https://znews.vn/bi-quyet-cua-cong-ty-nam-giu-dua-than-cong-nghe-post1611537.html
Коментар (0)