Die USA versuchen, das Monopol von ASML zu brechen.

Die US- Regierung hat soeben 825 Millionen Dollar an Fördermitteln für den Bau eines Forschungs- und Entwicklungszentrums für extreme ultraviolette (EUV) Lithographieanlagen im Land bewilligt, mit dem Ziel, das Monopol von ASML zu brechen.

Das neue Zentrum mit dem Namen EUV Accelerator befindet sich im Albany NanoTech Complex in New York und ist die erste Forschungs- und Entwicklungseinrichtung (F&E), die unter der Schirmherrschaft des CHIPS-Gesetzes errichtet wurde.

Mit dem Ziel, die US-amerikanische Halbleiterindustrie zu stärken, wird der EUV-Beschleuniger mit hochmodernen Chipfertigungsanlagen ausgestattet, die es Forschern aus der Industrie ermöglichen, mit universitären Ausbildungspartnern zusammenzuarbeiten.

„Wenn in den Vereinigten Staaten Spitzenforschung betrieben wird, werden wir in der Lage sein, die fortschrittlichsten Chips der Welt herzustellen und unserem Militär damit einen Vorteil zu verschaffen“, sagte Senator Schumer. „Natürlich sichert dies auch der amerikanischen Wirtschaft und den Unternehmen einen Vorsprung im Bereich der fortschrittlichen Halbleiter.“

Die Länder suchen fieberhaft nach Lösungen, um den Engpass bei ASML zu beseitigen. Foto: Bloomberg.

Die US-Regierung betrachtet EUV unterdessen als eine entscheidende Technologie bei der Herstellung fortschrittlicher Chips und strebt danach, diese zu beherrschen.

Washington argumentiert außerdem, dass der Zugang zu EUV-Technologie, deren Erforschung und Entwicklung unerlässlich seien, um Amerikas führende Position auszubauen, die Prototypenzeit und -kosten zu reduzieren und ein Ökosystem für Halbleiterfachkräfte aufzubauen und zu erhalten.

Nach Inbetriebnahme wird sich der EUV-Beschleuniger voraussichtlich auf die Entwicklung fortschrittlicher digitaler EUV-Laser mit hoher Apertur sowie auf die Erforschung anderer EUV-basierter Technologien konzentrieren.

Das Zentrum soll voraussichtlich im nächsten Jahr Zugang zu Standard-EUV-NA und im Jahr 2026 zu EUV High-NA für Mitglieder des US National Semiconductor Technology Center (NTSC) und Natcast bieten.

„Die Eröffnung des Zentrums ist ein bedeutender Meilenstein, um sicherzustellen, dass die Vereinigten Staaten weiterhin eine weltweit führende Rolle bei Innovationen im Bereich der Halbleitertechnologie spielen“, sagte US-Handelsministerin Gina Raimondo in einer Erklärung.

Im Februar kündigte die Biden-Regierung Finanzmittel für den Chiphersteller GlobalFoundries an, um die Produktionsausweitung in Albany und Vermont voranzutreiben. Im April folgte ein weiteres Hilfspaket der USA in Höhe von 6,1 Milliarden US-Dollar für Micron zur Herstellung fortschrittlicher Speicherchips.

Bei der Photolithographie werden Schaltpläne auf die lichtempfindliche Oberfläche eines Siliziumwafers gedruckt, indem ein Lichtstrahl durch eine mit dem Schaltplan vorbeschriebene Glasscheibe auf den Siliziumwafer gerichtet wird.

Je kleiner der Schaltkreis, desto mehr Lichtquellen mit kürzeren Wellenlängen werden benötigt, wobei extremes Ultraviolett (EUV) die derzeit fortschrittlichste Entwicklung darstellt.

Über die Jahre hinweg hatte ASML ein „Monopol“ auf die Lieferung von Lithographiemaschinen inne, wodurch das niederländische Unternehmen zu einem „Engpass“ in der Halbleiter-Lieferkette wurde.

Laut SCMP verfügen TSMC und ASML über eine Möglichkeit, die Anlagen ihrer Chipfabriken im Falle einer geopolitischen Krise aus der Ferne abzuschalten.

Diese Chipfabriken sind auch ein Brennpunkt der Auseinandersetzung zwischen Washington und Peking. ASML verkauft derzeit seine fortschrittlichste EUV-High-NA-Maschine für 380 Millionen US-Dollar, nachdem das Unternehmen Anfang des Jahres das erste Gerät an Intel und das zweite an einen „nicht genannten Kunden“ ausgeliefert hat.

Nicht nur die USA, sondern auch andere Glieder der globalen Halbleiter-Lieferkette streben danach, EUVs im Inland herzustellen.

Anfang August gaben japanische Forscher (OIST) die erfolgreiche Entwicklung einer einfacheren und kostengünstigeren EUV-Lithografieanlage bekannt. Dieses Gerät zeichnet sich zudem durch ein einfacheres Design als das herkömmliche ASML-System aus; so wurde beispielsweise die Anzahl der optischen Beleuchtungsspiegel von üblicherweise sechs auf nur zwei reduziert.

Mit ihrem einfacheren Design und den geringeren Kosten im Vergleich zu den Anlagen von ASML könnte die neue EUV-Maschine, falls sie in Serie produziert wird, die Chip-Foundry-Industrie umgestalten und damit die gesamte Halbleiterindustrie beeinflussen.

Zu den Vorteilen der Maschine zählen außerdem die erhöhte Zuverlässigkeit und der geringere Wartungsaufwand. Auch der deutlich reduzierte Stromverbrauch ist ein Pluspunkt des neuen Systems.

Dank des optimierten Lichtwegs arbeitet das System mit einer EUV-Lichtquelle von nur 20 W, wodurch der Gesamtstromverbrauch unter 100 kW liegt. Herkömmliche EUV-Systeme benötigen hingegen typischerweise mehr als 1 MW Leistung.

Das OIST hat eine Patentanmeldung für die Technologie eingereicht und erklärt, die EUV-Lithografieanlage für praktische Anwendungen weiterzuentwickeln. Der globale Markt für EUV-Anlagen soll von 8,9 Milliarden US-Dollar im Jahr 2024 auf 17,4 Milliarden US-Dollar im Jahr 2030 wachsen.

(Laut Fortune und Bloomberg)

Quelle: https://vietnamnet.vn/my-tim-cach-pha-the-doc-quyen-cua-asml-2338672.html