Een doorbraak van de chipgigant.

ASML heeft een nieuwe doorbraak bereikt in EUV-technologie. Foto: ASML .

ASML heeft aangekondigd dat het aanzienlijke vooruitgang heeft geboekt in de lichtbrontechnologie voor extreem ultraviolette (EUV) lithografiemachines, wat de chipproductie tegen het einde van dit decennium met wel 50% zou kunnen verhogen. De aankondiging werd gedaan op 23 februari.

De Nederlandse techgigant is momenteel de enige fabrikant ter wereld van commerciële EUV-machines, een essentieel onderdeel in de geavanceerde chipfabricage die wordt gebruikt door de grootste halfgeleiderbedrijven zoals TSMC en Intel. EUV-technologie wordt beschouwd als het "hart" van het printproces voor printplaten in moderne halfgeleidergeneraties.

Volgens onderzoekers van ASML heeft het bedrijf een manier gevonden om het vermogen van zijn EUV-lichtbron te verhogen van de huidige 600 watt naar 1.000 watt. Michael Purvis, hoofdtechnicus EUV-lichtbronnen bij ASML, zei dat het nieuwe systeem niet zomaar een experiment voor de korte termijn is, maar volledig voldoet aan de operationele eisen van de klant.

"Dit is een systeem dat het vermogen kan verhogen tot 1000 watt, met behoud van dezelfde vereisten zoals u kunt zien," aldus Purvis in de fabriek van ASML in Californië.

Een hoger vermogen maakt kortere belichtingstijden mogelijk bij het printen van chips op met fotolak gecoate siliciumwafers, waardoor het aantal chips dat per uur geproduceerd kan worden toeneemt en de kosten per stuk dalen. Volgens Teun Van Gogh, Executive Vice President bij ASML, is het doel van het bedrijf om klanten te helpen EUV te blijven gebruiken tegen aanzienlijk lagere kosten.

De heer Van Gogh verklaarde dat tegen het einde van dit decennium elke EUV-machine ongeveer 330 wafers per uur zou kunnen verwerken, tegenover de huidige 220. Afhankelijk van de grootte kan elke wafer enkele tientallen tot duizenden chips bevatten.

EUV-technologie is zo complex dat het een belangrijk punt van geopolitieke concurrentie is geworden. De Amerikaanse overheid heeft met Nederland samengewerkt om de export van EUV-apparatuur naar China te beperken. Tegelijkertijd zet China zich in om soortgelijke technologie in eigen land te ontwikkelen.

In de VS hebben startups zoals Substrate en xLight honderden miljoenen dollars opgehaald om concurrerende oplossingen te ontwikkelen, waarbij xLight onder president Donald Trump zelfs overheidssteun ontving.

ASML is de exclusieve wereldwijde leverancier van commerciële EUV-apparaten. Foto: ASML .

Om EUV-licht met een golflengte van 13,5 nm te genereren, vuurt de machine van ASML druppels gesmolten tin af in een vacuümkamer, waar ze door een CO2-laser worden verhit tot plasma. Dit plasma is een oververhitte toestand die EUV-licht uitzendt. Dit licht wordt vervolgens opgevangen en door een precisie-optisch systeem van Carl Zeiss AG (Duitsland) gericht om het circuit op een wafer te printen.

De nieuwe verbeteringen omvatten onder meer een verdubbeling van het aantal tindruppels tot ongeveer 100.000 druppels per seconde, en het gebruik van twee kleine laserpulsen om het plasma vorm te geven in plaats van één enkele puls zoals voorheen.

Jorge J. Rocca, professor aan de Colorado State University, merkte op dat het behalen van een vermogen van 1.000 watt "zeer indrukwekkend" is, waarmee hij de aanzienlijke technische uitdaging van deze technologie benadrukte.

ASML verklaarde dat de nieuwe technieken de weg vrijmaken voor een verhoging van het vermogen tot 1500 watt, of zelfs 2000 watt in de toekomst. Dit zal het concurrentievoordeel van het bedrijf in de wereldwijde halfgeleidertechnologie versterken.

Bron: https://znews.vn/asml-tiep-tuc-cung-co-vi-the-post1630130.html