De VS probeert het monopolie van ASML te doorbreken.

De Amerikaanse overheid heeft zojuist 825 miljoen dollar aan financiering goedgekeurd voor de bouw van een onderzoeks- en ontwikkelingscentrum voor apparatuur voor extreem ultraviolette (EUV) lithografie in het land, met als doel het monopolie van ASML te doorbreken.

Het nieuwe centrum, genaamd EUV Accelerator, is gevestigd in het Albany NanoTech Complex in New York en is de eerste onderzoeks- en ontwikkelingsfaciliteit die is opgericht in het kader van de CHIPS Act.

Met als doel de Amerikaanse halfgeleiderindustrie een impuls te geven, zal de EUV-versneller worden uitgerust met ultramoderne machines voor de chipfabricage, waardoor onderzoekers uit de industrie kunnen samenwerken met universitaire opleidingspartners.

"Wanneer geavanceerd onderzoek in de Verenigde Staten wordt uitgevoerd, zullen we in staat zijn 's werelds meest geavanceerde chips te creëren, wat ons leger een voordeel zal geven", aldus senator Schumer. "Het zorgt er natuurlijk ook voor dat de Amerikaanse economie en het bedrijfsleven een voorsprong hebben op het gebied van geavanceerde halfgeleiders."

Landen haasten zich om manieren te vinden om het ASML-knelpunt op te lossen. Foto: Bloomberg.

Ondertussen beschouwt de Amerikaanse overheid EUV als een cruciale technologie voor de productie van geavanceerde chips en streeft ernaar deze te beheersen.

Washington betoogt ook dat toegang tot, onderzoek naar en ontwikkeling van EUV-technologie essentieel is voor het versterken van Amerika's leidende positie, het verkorten van de prototypetijd en -kosten, en het opbouwen en in stand houden van een ecosysteem voor de halfgeleiderindustrie.

Naar verwachting zal de EUV-versneller, zodra deze operationeel is, zich richten op de ontwikkeling van geavanceerde digitale EUV-lasers met een hoge apertuur en op onderzoek naar andere op EUV gebaseerde technologieën.

Het centrum zal naar verwachting volgend jaar toegang bieden tot standaard EUV NA en in 2026 tot EUV High-NA aan leden van het Amerikaanse National Semiconductor Technology Center (NTSC) en Natcast.

"De opening van het centrum markeert een belangrijke mijlpaal om ervoor te zorgen dat de Verenigde Staten een wereldleider blijven op het gebied van innovatie in de halfgeleiderindustrie", aldus Gina Raimondo, de Amerikaanse minister van Handel, in een verklaring.

In februari kondigde de regering-Biden financiering aan voor chipfabrikant GlobalFoundries om de productie-uitbreiding in Noord-Albany en Vermont te stimuleren. In april kondigden de VS bovendien een pakket van 6,1 miljard dollar aan voor Micron om geavanceerde geheugenchips te produceren.

Fotolithografie is het proces waarbij schakelschema's op het lichtgevoelige oppervlak van een silicium wafer worden afgedrukt door een lichtstraal op de silicium wafer te richten via een glazen schijf waarop het schakelschema vooraf is getekend.

Hoe kleiner het circuit, hoe meer lichtbronnen met kortere golflengtes nodig zijn, waarbij extreem ultraviolet (EUV) de meest geavanceerde ontwikkeling is die momenteel beschikbaar is.

ASML heeft door de jaren heen een "monopolie" gehad op de levering van lithografiemachines, waardoor het Nederlandse bedrijf een "flessenhals" is geworden in de toeleveringsketen van halfgeleiders.

Volgens SCMP beschikken TSMC en ASML over een manier om de apparatuur van hun chipfabrieken op afstand uit te schakelen in geval van een geopolitieke crisis.

Deze chipfabrieken vormen ook een bron van conflict tussen Washington en Peking. ASML verkoopt momenteel zijn meest geavanceerde EUV High-NA-machine voor 380 miljoen dollar. Het eerste exemplaar werd eerder dit jaar aan Intel geleverd en het tweede aan een "niet nader genoemde klant".

Niet alleen de VS, maar ook andere schakels in de wereldwijde halfgeleiderproductieketen streven ernaar om EUV-leds in eigen land te produceren.

Begin augustus kondigden Japanse onderzoekers (OIST) de succesvolle ontwikkeling aan van een eenvoudigere en goedkopere EUV-lithografiemachine. Bovendien heeft dit apparaat een eenvoudiger ontwerp dan het conventionele ASML-systeem, waarbij bijvoorbeeld het aantal optische belichtingsspiegels is teruggebracht tot slechts twee in plaats van de standaard zes.

Met zijn eenvoudigere ontwerp en lagere kosten in vergelijking met de apparatuur van ASML zou de nieuwe EUV-machine, indien op grote schaal geproduceerd, de chipfabricage-industrie ingrijpend kunnen veranderen en daarmee de gehele halfgeleiderindustrie kunnen beïnvloeden.

Bovendien is een van de voordelen van de machine de verhoogde betrouwbaarheid en de verminderde complexiteit van het onderhoud. Een aanzienlijk lager energieverbruik is ook een sterk punt van het nieuwe systeem.

Dankzij een geoptimaliseerd lichtpad werkt het systeem met een EUV-lichtbron van slechts 20 W, waardoor het totale stroomverbruik onder de 100 kW blijft. Ter vergelijking: traditionele EUV-systemen vereisen doorgaans meer dan 1 MW aan vermogen.

OIST heeft een patent aangevraagd voor de technologie en heeft aangegeven dat het de EUV-lithografiemachine verder zal ontwikkelen voor praktische toepassingen. De wereldwijde markt voor EUV-machines zal naar verwachting groeien van 8,9 miljard dollar in 2024 tot 17,4 miljard dollar in 2030.

(Volgens Fortune en Bloomberg)

Bron: https://vietnamnet.vn/my-tim-cach-pha-the-doc-quyen-cua-asml-2338672.html