Het nieuwe centrum, de EUV Accelerator, gevestigd in het Albany NanoTech Complex in New York, is de eerste onderzoeks- en ontwikkelingsfaciliteit (R&D) die is opgericht onder auspiciën van de CHIPS Act.

De EUV Accelerator moet de Amerikaanse halfgeleiderindustrie een impuls geven en wordt uitgerust met ultramoderne apparatuur voor de productie van chips. Hierdoor kunnen onderzoekers uit de industrie samenwerken met opleidingspartners van universiteiten.

"Wanneer er in de Verenigde Staten hoogwaardig onderzoek wordt gedaan, kunnen we de meest geavanceerde chips ter wereld maken, wat ons een militair voordeel oplevert", aldus senator Schumer. "Natuurlijk zorgt het er ook voor dat de Amerikaanse economie en het bedrijfsleven een voorsprong hebben op het gebied van geavanceerde halfgeleiders."

sjjjjjjllll.jpeg
Landen haasten zich om manieren te vinden om de ASML-knelpunten te deblokkeren. Foto: Bloomberg

Ondertussen beschouwt de Amerikaanse overheid EUV als een belangrijke technologie voor de productie van geavanceerde chips en streeft ernaar deze technologie onder de knie te krijgen.

Washington is er ook van overtuigd dat toegang tot EUV, onderzoek en ontwikkeling noodzakelijk zijn om de Amerikaanse leidende positie te versterken, de tijd en kosten van prototypes te verminderen en een ecosysteem voor de halfgeleiderindustrie op te bouwen en in stand te houden.

Zodra de EUV Accelerator operationeel is, zal deze zich naar verwachting richten op de ontwikkeling van geavanceerde EUV's met een hoge numerieke apertuur en op onderzoek naar andere EUV-gebaseerde technologieën.

Verwacht wordt dat het centrum volgend jaar toegang zal bieden tot standaard EUV NA en in 2026 tot hoge-NA EUV voor leden van het Amerikaanse National Semiconductor Technology Center (NTSC) en Natcast.

"De lancering van het centrum markeert een belangrijke mijlpaal in het waarborgen dat de Verenigde Staten wereldleider blijven op het gebied van halfgeleiderinnovatie", aldus een verklaring van de Amerikaanse minister van Handel Gina Raimondo.

In februari kondigde de regering-Biden een subsidie ​​aan chipfabrikant GlobalFoundries aan om de productie ten noorden van Albany en Vermont te stimuleren. In april kondigde de VS een pakket van 6,1 miljard dollar aan Micron aan voor de productie van geavanceerde geheugenchips.

Fotolithografie is het proces waarbij een schakelschema op het lichtgevoelige oppervlak van een siliciumwafer wordt afgedrukt door een lichtstraal op de siliciumwafer te schijnen via een glasplaat waarop het schakelschema is getekend.

Kleinere circuits vereisen lichtbronnen met een kortere golflengte, waarbij extreem ultraviolet (EUV) momenteel de modernste ontwikkeling is.

ASML had de afgelopen jaren een "monopolie" op de levering van fotolithografiemachines, waardoor het Nederlandse bedrijf een "knelpunt" werd in de halfgeleidertoeleveringsketen.

TSMC en ASML kunnen chipgieterijapparatuur op afstand uitschakelen SCMP citeerde bronnen die zeiden dat TSMC en ASML over een manier beschikken om 's werelds modernste chipgieterijapparatuur op afstand uit te schakelen in geval van een geopolitieke crisis.

Deze chipgieterijen vormen ook een heet 'front' tussen Washington en Peking. Momenteel wordt de meest geavanceerde EUV High-NA-machine door ASML verkocht voor $ 380 miljoen, waarbij de eerste eerder dit jaar naar Intel werd verzonden en de tweede naar een 'onbekende klant'.

Niet alleen de VS, maar ook schakels in de wereldwijde halfgeleidertoeleveringsketen proberen zelf EUV te produceren.

Begin augustus meldden Japanse onderzoekers (OIST) dat ze met succes een eenvoudigere en goedkopere EUV-lithografiemachine hadden ontwikkeld. Bovendien heeft dit apparaat een eenvoudiger ontwerp dan ASML's conventionele systeem, zoals het terugbrengen van het aantal optische spiegels tot slechts twee in plaats van de standaard zes.

De nieuwe EUV-machine heeft een eenvoudigere structuur en is goedkoper dan de apparatuur van ASML. Als de machine massaal wordt geproduceerd, kan hij de chipindustrie radicaal veranderen en daarmee de gehele halfgeleiderindustrie beïnvloeden.

Een ander voordeel van de machine is de verhoogde betrouwbaarheid en de verminderde onderhoudscomplexiteit. Een ander sterk punt van het nieuwe systeem is de aanzienlijke verlaging van het stroomverbruik.

Dankzij het geoptimaliseerde lichtpad werkt het systeem met een EUV-lichtbron van slechts 20 W, wat resulteert in een totaal stroomverbruik van minder dan 100 kW. Ter vergelijking: conventionele EUV-systemen hebben doorgaans meer dan 1 MW aan vermogen nodig.

OIST heeft een patentaanvraag ingediend voor de technologie en heeft aangegeven de EUV-lithografiemachine te blijven ontwikkelen voor praktische toepassingen. De wereldwijde markt voor EUV-machines zal naar verwachting groeien van 8,9 miljard USD in 2024 tot 17,4 miljard USD in 2030.

(Volgens Fortune, Bloomberg)