Новый центр, названный EUV Accelerator, расположенный в Albany NanoTech Complex в Нью-Йорке, является первым научно-исследовательским и опытно-конструкторским центром, созданным под эгидой Закона CHIPS.

Проект EUV-ускорителя, направленный на стимулирование полупроводниковой промышленности США, будет оснащен самым современным оборудованием для производства микросхем, что позволит исследователям отрасли сотрудничать с университетскими партнерами по обучению.

«Когда в Соединённых Штатах будут проводиться исследования высокого уровня, мы сможем создавать самые передовые чипы в мире, что даст нам военное преимущество», — заявил сенатор Шумер. «Конечно, это также обеспечит американской экономике и бизнесу преимущество в области передовых полупроводников».

sjjjjjjllll.jpeg
Страны стремятся найти способы устранения проблем, связанных с ASML. Фото: Bloomberg

Тем временем правительство США считает EUV важной технологией в производстве современных чипов и ставит перед собой цель освоить эту технологию.

Вашингтон также считает, что доступ к EUV, исследования и разработки необходимы для укрепления лидерства США, сокращения времени и затрат на создание прототипов, а также для создания и поддержания экосистемы рабочей силы в сфере полупроводников.

Ожидается, что после ввода в эксплуатацию ускоритель EUV сосредоточится на разработке усовершенствованного EUV с высокой числовой апертурой, а также на исследовании других технологий на основе EUV.

Ожидается, что центр предоставит членам Национального центра полупроводниковых технологий США (NTSC) и Natcast доступ к стандартному EUV NA в следующем году и к EUV с высокой NA в 2026 году.

«Запуск центра знаменует собой важную веху в обеспечении того, чтобы Соединенные Штаты оставались мировым лидером в области инноваций в области полупроводников», — говорится в заявлении министра торговли США Джины Раймондо.

В феврале администрация Байдена объявила о предоставлении гранта производителю микросхем GlobalFoundries для стимулирования производства к северу от Олбани и Вермонта. В апреле США объявили о предоставлении гранта Micron в размере 6,1 млрд долларов на производство современных микросхем памяти.

Фотолитография — это процесс печати принципиальной схемы на светочувствительной поверхности кремниевой пластины путем направления светового луча на кремниевую пластину через стеклянную пластину с нарисованной на ней принципиальной схемой.

Для меньших схем требуются источники света с более короткой длиной волны, при этом самой современной разработкой на сегодняшний день является экстремальный ультрафиолет (EUV).

В последние годы ASML стала «монополистом» на рынке поставок фотолитографических машин, что превратило голландскую компанию в «узкое место» в цепочке поставок полупроводников.

TSMC и ASML могут удаленно отключать оборудование для литья микросхем SCMP цитирует источники, сообщающие, что у TSMC и ASML есть способы удаленно отключать самые современные в мире машины для литья микросхем в случае геополитического кризиса.

Эти заводы по производству чипов также являются горячим «фронтом» между Вашингтоном и Пекином. В настоящее время самый современный станок EUV High-NA продаётся компанией ASML за 380 миллионов долларов. Первый был поставлен Intel в начале этого года, а второй — «неустановленному покупателю».

Не только США, но и звенья глобальной цепочки поставок полупроводников пытаются самостоятельно производить EUV.

В начале августа японские исследователи (OIST) заявили об успешной разработке более простого и дешёвого литографического устройства для сверхвысокой ультрафиолетовой области (EUV). Более того, это устройство имеет более простую конструкцию, чем традиционная система ASML, например, в нём используется всего два оптических зеркала вместо стандартных шести.

Новая EUV-машина, имеющая более простую конструкцию и более низкую стоимость по сравнению с оборудованием ASML, при условии ее массового производства может кардинально изменить отрасль литья микросхем и тем самым оказать влияние на всю полупроводниковую промышленность.

Кроме того, одним из преимуществ машины является повышенная надёжность и снижение сложности обслуживания. Значительное снижение энергопотребления также является сильной стороной новой системы.

Благодаря оптимизированному пути распространения света система работает с источником EUV-излучения мощностью всего 20 Вт, что обеспечивает общую потребляемую мощность менее 100 кВт. Для сравнения, традиционные EUV-системы обычно потребляют более 1 МВт мощности.

Компания OIST подала патентную заявку на эту технологию и заявила, что продолжит разработку литографической машины EUV для практического применения. Ожидается, что мировой рынок машин EUV вырастет с 8,9 млрд долларов США в 2024 году до 17,4 млрд долларов США в 2030 году.

(По данным Fortune, Bloomberg)