Teknoloji, çip üretimini %50 oranında artırmaya yardımcı oluyor.

Teknoloji şirketi ASML, aşırı ultraviyole (EUV) litografi teknolojisinde önemli bir atılımı duyurdu. Yepyeni 1.000 watt'lık bir ışık sistemiyle, makine saniyede 100.000 kalay damlacığına üç lazer ışını gönderebiliyor. Bu gelişme, 2030 yılına kadar çip üretim hızını %50 artırmakla kalmıyor, aynı zamanda üretim maliyetlerini de önemli ölçüde düşürerek tüm yarı iletken endüstrisi için yeni bir çağ başlatıyor.

ASML kısa süre önce yeni nesil Twinscan NXE litografi sistemini piyasaya sürmeye hazır olduklarını doğruladı. Bu sistem, 1.000 watt'lık bir EUV güç kaynağı ile donatılmıştır ve saatte 330 adede kadar yarı iletken plakayı işleyebilir.

2030 veya daha sonraki bir tarihte piyasaya sürülmesi beklenen bu makine, şu anda piyasada bulunan en gelişmiş EUV araçlarından %50'den fazla daha fazla güç sunacak. Bu cihazlar, çip üreticilerinin verimliliği önemli ölçüde artırmasına ve yarı iletken disk başına maliyeti en aza indirmesine yardımcı olacak. Ancak bu hedefi gerçekleştirmek için ASML'nin bir dizi zorluğun üstesinden gelmesi ve önemli teknolojik ilerlemeler kaydetmesi gerekti.

ASML'nin teknoloji ekibinden temsilciler, bir kilovat güç elde etmenin inanılmaz derecede etkileyici bir başarı olduğunu belirtti. Şirket, 1.500 watt'a doğru net bir gelişim yolu görüyor ve gelecekte 2.000 watt'a ulaşmanın tamamen mümkün olduğuna inanıyor.

ASML'nin önümüzdeki on yıl içinde 1.000 watt'lık bir EUV kaynağı elde edebilmesi için, üç lazer darbesi kullanan tamamen yeni bir ışık üretim yöntemi geliştirmesi gerekiyordu. Bu yöntem, kalay damlacıklarını düzleştirmek için ilk bir alt darbe, bunları genişletmek için ikinci bir alt darbe ve son olarak, bu kalay damlacıklarını EUV ışığı yayacak bir plazma durumuna dönüştüren ana bir lazer darbesini içerir.

Ayrıca, yeni sistem, çalışma kapasitesini saniyede 100.000 kalay damlasına çıkaracak gelişmiş bir kalay damlacığı jeneratörü ile donatılacaktır.

Ancak, kalay damlacıklarının sayısının artması, daha fazla atığın dışarı atılması anlamına gelir. Bu nedenle, yarı iletken disk yüzeyinin tamamen temiz kalmasını sağlamak için sistemin tamamen yeni bir atık toplayıcısına ihtiyacı vardır.

Dahası, 1.000 watt radyasyon üretmek zordur, ancak bu enerjiyi yarı iletken diske iletmek daha da zordur. Bu nedenle ASML, işlem kapasitesini saatte 450'den fazla yarı iletken diske çıkaracak şekilde tasarlanmış tamamen yeni bir yüksek iletimli optik lens sistemi icat etti.

Daha yüksek ışık çıkışı, yarı iletken levhalar için montaj ve hareket sistemlerinin kapsamlı bir şekilde iyileştirilmesini de gerektirir.

Bu güçlü ışık kaynağı, yeni nesil fotorezist kimyasal malzemeler ve koruyucu filmler gerektiriyor. Bu da sadece ASML'nin değil, tüm çip üretim endüstrisi ekosisteminin bu yeni araçların gelişine hazır olması gerektiği anlamına geliyor.

Şu anda ASML, ürün yol haritasına 1.000 watt'lık bir ışık kaynağını entegre etmeyi planlıyor. Yeni nesil litografi makinelerinin 2027 ile 2029 yılları arasında kademeli olarak piyasaya sürülmesi bekleniyor.

Kaynak: https://baophapluat.vn/cong-nghe-giup-tang-50-san-luong-chip.html