New York'taki Albany NanoTech Kompleksi'nde bulunan EUV Hızlandırıcı adı verilen yeni merkez, CHIPS Yasası kapsamında kurulan ilk araştırma ve geliştirme (Ar-Ge) tesisi olma özelliğini taşıyor.

ABD yarı iletken endüstrisini canlandırmayı amaçlayan EUV Hızlandırıcı, son teknoloji çip üretim makineleriyle donatılacak ve endüstri araştırmacılarının üniversite eğitim ortaklarıyla iş birliği yapmasına olanak tanıyacak.

Senatör Schumer, "Amerika Birleşik Devletleri'nde üst düzey araştırmalar yürütüldüğünde, dünyanın en gelişmiş çiplerini üretebileceğiz ve bu da bize askeri bir avantaj sağlayacak," dedi. "Elbette, bu aynı zamanda Amerikan ekonomisi ve işletmelerinin gelişmiş yarı iletkenler konusunda avantaj elde etmesini de sağlayacak."

sjjjjjjllll.jpeg
Ülkeler, ASML darboğazını aşmanın yollarını bulmak için yarışıyor. Fotoğraf: Bloomberg

Bu arada ABD hükümeti EUV'yi ileri çip üretiminde önemli bir teknoloji olarak görüyor ve bu teknolojiye hakim olmayı hedefliyor.

Washington ayrıca, ABD liderliğini genişletmek, prototipleme süresini ve maliyetlerini azaltmak ve bir yarı iletken iş gücü ekosistemi oluşturmak ve sürdürmek için EUV erişiminin, araştırma ve geliştirmenin gerekli olduğuna inanıyor.

Faaliyete geçtikten sonra EUV Hızlandırıcısının, ileri düzey yüksek sayısal açıklıklı EUV'lerin geliştirilmesine ve diğer EUV tabanlı teknolojilerin araştırılmasına odaklanması bekleniyor.

Merkezin, önümüzdeki yıl standart EUV NA'ya, 2026'da ise yüksek NA EUV'ye ABD Ulusal Yarı İletken Teknoloji Merkezi (NTSC) ve Natcast üyelerine erişim sağlaması bekleniyor.

ABD Ticaret Bakanı Gina Raimondo'nun açıklamasında, "Merkezin açılışı, ABD'nin yarı iletken inovasyonunda küresel lider konumunu sürdürmesini sağlamada önemli bir dönüm noktasını temsil ediyor" denildi.

Şubat ayında Biden yönetimi, Albany ve Vermont'un kuzeyindeki üretimi artırmak için çip üreticisi GlobalFoundries'e bir hibe vereceğini duyurdu. Nisan ayında ise ABD, gelişmiş bellek çipleri üretmek için Micron'a 6,1 milyar dolarlık bir paket açıkladı.

Fotolitografi, üzerine devre şeması çizilmiş bir cam levhadan geçirilen bir ışık demetinin silikon levha üzerine tutulmasıyla, silikon levhanın ışığa duyarlı yüzeyine devre şemasının basılması işlemidir.

Daha küçük devreler daha kısa dalga boylu ışık kaynakları gerektirir; günümüzde en modern gelişme aşırı ultraviyole (EUV)'dir.

Son yıllarda fotolitografi makinelerinin tedarikinde "tekel" haline gelen ASML, Hollandalı şirketi yarı iletken tedarik zincirinde "dar boğaz" haline getirdi.

TSMC ve ASML, çip dökümhane ekipmanlarını uzaktan devre dışı bırakabiliyor SCMP'nin kaynaklara dayandırdığı habere göre, TSMC ve ASML, jeopolitik bir kriz durumunda dünyanın en modern çip dökümhane makinelerini uzaktan devre dışı bırakabilecek yöntemlere sahip.

Bu çip dökümhaneleri aynı zamanda Washington ve Pekin arasında sıcak bir "cephe" görevi görüyor. Şu anda en gelişmiş EUV High-NA makinesi ASML tarafından 380 milyon dolara satılıyor; ilki bu yılın başlarında Intel'e, ikincisi ise "kimliği belirsiz bir müşteriye" gönderildi.

Sadece ABD değil, küresel yarı iletken tedarik zincirindeki halkalar da EUV'yi kendileri üretmeye çalışıyor.

Japon araştırmacılar (OIST), Ağustos ayı başlarında daha basit ve daha ucuz bir EUV litografi makinesi geliştirdiklerini açıkladılar. Üstelik bu cihaz, ASML'nin geleneksel sisteminden daha basit bir tasarıma sahip; örneğin, varsayılan altı optik ayna yerine yalnızca iki optik aynaya indirgenmiş.

ASML'nin ekipmanlarından daha basit bir yapıya sahip ve daha ucuz olan yeni EUV makinesi, seri üretime geçirildiğinde çip döküm endüstrisini yeniden şekillendirerek tüm yarı iletken endüstrisini etkileyebilir.

Ayrıca, makinenin avantajlarından biri de artan güvenilirlik ve bakım karmaşıklığının azalmasıdır. Güç tüketimindeki önemli azalma da yeni sistemin güçlü yönlerinden biridir.

Optimize edilmiş ışık yolu sayesinde sistem, yalnızca 20 W'lık bir EUV ışık kaynağıyla çalışır ve bu da toplam güç tüketiminin 100 kW'ın altında olmasına neden olur. Buna karşılık, geleneksel EUV sistemleri genellikle 1 MW'tan fazla güç gerektirir.

OIST, teknoloji için patent başvurusunda bulundu ve EUV litografi makinesini pratik uygulamalar için geliştirmeye devam edeceğini açıkladı. Küresel EUV makine pazarının 2024'teki 8,9 milyar ABD dolarından 2030'da 17,4 milyar ABD dolarına çıkması bekleniyor.

(Fortune, Bloomberg'e göre)