ABD, ASML'nin tekelini kırmaya çalışıyor.

ABD hükümeti, ASML'nin tekelini kırmak amacıyla ülkede aşırı ultraviyole (EUV) litografi ekipmanı için bir araştırma ve geliştirme merkezi kurmak üzere 825 milyon dolarlık fonu onayladı.

New York'taki Albany NanoTech Kompleksi'nde bulunan ve EUV Hızlandırıcı olarak adlandırılan yeni merkez, CHIPS Yasası kapsamında kurulan ilk araştırma ve geliştirme (Ar-Ge) tesisidir.

ABD yarı iletken endüstrisini destekleme hedefiyle, EUV Hızlandırıcı, en son teknolojiye sahip çip üretim makineleriyle donatılacak ve endüstri araştırmacılarının üniversite eğitim ortaklarıyla işbirliği yapmasını sağlayacaktır.

Senatör Schumer, "Amerika Birleşik Devletleri'nde ileri düzey araştırmalar yapıldığında, dünyanın en gelişmiş çiplerini üretebileceğiz ve bu da ordumuza avantaj sağlayacak," dedi. "Elbette, bu aynı zamanda Amerikan ekonomisinin ve işletmelerinin gelişmiş yarı iletkenler konusunda da avantaj elde etmesini sağlayacaktır."

Ülkeler ASML darboğazını çözmenin yollarını bulmak için yarışıyor. Fotoğraf: Bloomberg.

Bu arada, ABD hükümeti EUV'yi gelişmiş çiplerin üretiminde çok önemli bir teknoloji olarak görüyor ve bu teknolojide uzmanlaşmayı hedefliyor.

Washington ayrıca, EUV'lere erişimin, bunların araştırılmasının ve geliştirilmesinin, Amerika'nın lider konumunu genişletmek, prototipleme süresini ve maliyetlerini azaltmak ve bir yarı iletken iş gücü ekosistemi oluşturmak ve sürdürmek için hayati önem taşıdığını savunuyor.

Faaliyete geçtiğinde, EUV Hızlandırıcı'nın gelişmiş yüksek açıklıklı dijital EUV'lerin geliştirilmesine ve diğer EUV tabanlı teknolojilerin araştırılmasına odaklanması bekleniyor.

Merkezin, ABD Ulusal Yarı İletken Teknolojisi Merkezi (NTSC) ve Natcast üyelerine gelecek yıl standart EUV NA'ya ve 2026'da EUV High-NA'ya erişim sağlaması bekleniyor.

ABD Ticaret Bakanı Gina Raimondo yaptığı açıklamada, "Merkezin açılışı, Amerika Birleşik Devletleri'nin yarı iletken inovasyonunda küresel liderliğini sürdürmesini sağlamada önemli bir dönüm noktasıdır" dedi.

Şubat ayında Biden yönetimi, çip üreticisi GlobalFoundries'in Albany'nin kuzeyinde ve Vermont'ta üretimini genişletmesi için fon sağladığını duyurdu. Nisan ayında ise ABD, Micron'a gelişmiş bellek çipleri üretmesi için 6,1 milyar dolarlık bir paket daha açıkladı.

Fotolitografi, önceden devre şeması çizilmiş bir cam disk üzerinden silikon levhaya ışık demeti göndererek devre şemalarının silikon levhanın ışığa duyarlı yüzeyine basılması işlemidir.

Devre ne kadar küçükse, o kadar kısa dalga boylu ışık kaynaklarına ihtiyaç duyar; şu anda mevcut olan en gelişmiş teknoloji ise aşırı ultraviyole (EUV) ışınlarıdır.

Yıllar içinde ASML, litografi makinelerinin tedarikinde "tekel" kurarak Hollandalı şirketi yarı iletken tedarik zincirinde bir "darboğaz" haline getirdi.

SCMP'ye göre, TSMC ve ASML, jeopolitik bir kriz durumunda çip üretim ekipmanlarını uzaktan devre dışı bırakmanın bir yoluna sahip.

Bu çip üretim tesisleri aynı zamanda Washington ve Pekin arasında da bir çekişme odağı. ASML şu anda en gelişmiş EUV High-NA makinesini 380 milyon dolara satıyor; ilk üniteyi bu yılın başlarında Intel'e, ikincisini ise "kimliği açıklanmayan bir müşteriye" teslim etti.

Sadece ABD değil, küresel yarı iletken tedarik zincirinin diğer halkaları da EUV'leri yurt içinde üretmek için çaba gösteriyor.

Ağustos ayı başlarında, Japon araştırmacılar (OIST), daha basit ve daha ucuz bir EUV litografi makinesinin başarılı bir şekilde geliştirildiğini duyurdu. Dahası, bu cihaz, geleneksel ASML sistemine göre daha basit bir tasarıma sahip; örneğin, standart altı yerine sadece ikiye indirilmiş optik aydınlatma aynası sayısı kullanılıyor.

ASML'nin ekipmanına kıyasla daha basit tasarımı ve daha düşük maliyetiyle, yeni EUV makinesi, seri üretime geçildiği takdirde, çip döküm endüstrisini yeniden şekillendirebilir ve böylece tüm yarı iletken endüstrisini etkileyebilir.

Ayrıca, makinenin avantajlarından biri de artan güvenilirlik ve azalan bakım karmaşıklığıdır. Yeni sistemin güçlü yönlerinden biri de önemli ölçüde azalan güç tüketimidir.

Optimize edilmiş ışık yolu sayesinde sistem, yalnızca 20 W'lık bir EUV ışık kaynağıyla çalışarak toplam güç tüketimini 100 kW'ın altına düşürüyor. Buna karşılık, geleneksel EUV sistemleri genellikle 1 MW'tan fazla güç gerektirir.

OIST, bu teknoloji için patent başvurusunda bulundu ve EUV litografi makinesini pratik uygulamalar için geliştirmeye devam edeceğini belirtti. Küresel EUV makine pazarının 2024'te 8,9 milyar dolardan 2030'da 17,4 milyar dolara çıkması bekleniyor.

(Fortune ve Bloomberg'e göre)

Kaynak: https://vietnamnet.vn/my-tim-cach-pha-the-doc-quyen-cua-asml-2338672.html