ブルームバーグによると、キヤノンの御手洗富士夫CEOは、この新技術ソリューションは従来のリソグラフィー装置に比べて性能は劣るものの、いくつかの利点があると認めた。ASMLの5nm技術装置と比較すると、キヤノンの装置は10分の1のコストで済む。
キヤノンの5nmチップ製造装置が顧客から大きな注目を集める
価格の最終決定はまだ行われていないが、中小企業にとってチップ製造がより手頃になり、大手の契約メーカーも新しい5nmチップ製造機を選択する意向があると御手洗氏は語った。
御手洗氏は、コスト削減だけでなく、自社の5nmチップ製造装置はASMLの極端紫外線リソグラフィー装置に比べて消費電力が10分の1に抑えられていると誇らしげに語った。環境問題への関心が高まる中、消費電力の削減は環境に良いだけでなく、メーカーのエネルギーコスト削減にも役立つ。
キヤノンは、シリコンウエハーにフォトマスクを投影する必要がないナノチップ印刷技術の開発に10年を費やしたと報じられている。ナノチップ印刷技術は日本政府による中国企業への制裁対象リストには含まれていないものの、キヤノン幹部は、5nmチップ製造装置を中国顧客に供給することはできないと考えている。その理由は、この技術により中国企業が14nmよりも「小さい」チップを製造できるようになる可能性があるためであり、これは日本、米国、オランダの各政府にとって歓迎すべきことではない。
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