Podle serveru Xataka se experti v oblasti výroby integrovaných obvodů shodují, že téměř dva měsíce po uvedení telefonu Mate 60 Pro na trh inženýři společnosti SMIC k vývoji čipů použili imerzní litografii TwinScan NXT:2000i UVP od společnosti ASML a také nástroje navržené společností Huawei. I když zařízení UVP není tak pokročilé jako litografie v extrémním ultrafialovém záření (EUV), lze jej použít k výrobě 5nm a 7nm čipů, pokud je výrobní proces dostatečně sofistikovaný.
Vytvoření 5nm čipu z TwinScan NXT:2000i UVP samotného by byl technologický výkon.
Jedním z expertů, kteří pomohli toto odhalit, byl Burn-Jeng Lin, elektrotechnik, který zastával funkci viceprezidenta společnosti TSMC. V nedávném rozhovoru pro agenturu Bloomberg Lin uvedl, že USA nebudou schopny udělat nic, aby Číně zabránily v dalším zdokonalování technologie výroby polovodičů. Společnost SMIC ve skutečnosti dokáže vyrábět 5nm čipy pomocí zařízení TwinScan NXT:2000i UVP.
Společnost TechInsights začátkem září předpovídala, že pokud by inženýři společnosti SMIC dokázali doladit integrační proces pro výrobu 7nm čipů s využitím zařízení ASML UVP, mohly by se objevit i 5nm čipy. Jednou z tehdejších pochybností bylo, jakého výkonu na wafer by společnost SMIC dokázala dosáhnout, ale tvrzení společnosti Huawei naznačovala, že by společnost SMIC mohla vyrobit dostatek čipů k uspokojení poptávky po 70 milionech kusů Mate 60 Pro.
Výroba 5nm čipů je mnohem složitější než 7nm čipů. Teoreticky by to TwinScan NXT:2000i mohl umožnit, ale inženýři SMIC by museli přejít na wafery, aby zvýšili rozlišení litografického procesu. Je pravděpodobné, že inženýři SMIC použili tuto techniku k výrobě Kirinu 9000S, ale k dosažení 5nm čipů by museli použít mnohem složitější vzory.
Odborníci tvrdí, že by nebylo překvapením, kdyby byl v příštích několika měsících uveden na trh nový smartphone Huawei s 5nm čipem od společnosti SMIC. Pokud by se tak stalo, byl by to obrovský výkon, protože dosáhnout takového cíle s UVP zařízením ASML je extrémně obtížné, ne-li nemožné. Americké sankce byly prodlouženy, aby se společnosti ASML zabránilo v dodávkách TwinScan NXT:2000i do Číny od 16. listopadu. Na seznamu zakázaných zařízení je navíc i zařízení TwinScan NXT:1980Di. V této souvislosti je jediným způsobem, jak může Čína tento problém překonat, navrhnout a vyrobit vlastní EUV zařízení. Země v současné době vyvíjí vlastní EUV zařízení, ale je nepravděpodobné, že by se tak stalo dříve než na konci tohoto desetiletí.
Zdrojový odkaz






Komentář (0)