Huawei erzielt Durchbrüche in der Chipindustrie.

Huawei kündigt neue Ausrichtung für Chipentwicklung und -produktion an. Foto: Bloomberg .

Huawei hat soeben eine völlig neue Richtung in der Halbleiterchip-Entwicklung angekündigt und wendet sich von fortschrittlichen EUV-Lithographieanlagen ab.

Auf einer Pressekonferenz am 25. Mai stellte He Tingbo, Vorsitzender des Wissenschaftskomitees und Leiter der Halbleiterabteilung von Huawei, das Tau-Ratio-Gesetz (τ) vor, ein neues Prinzip, das laut Huawei „die Entwicklung sowohl von Halbleitern als auch von elektronischen Systemen“ leiten soll.

Auf diesem Prinzip aufbauend kündigte Huawei gleichzeitig die LogicFolding-Architektur an, eine Technologie, die Widerstand und Kapazität bei der Signalübertragung reduziert und dadurch die Transistordichte erhöht, ohne dass die Lithografieanlage verbessert werden muss. Das Unternehmen strebt an, bis 2031 eine Transistordichte zu erreichen, die der des 1,4-nm-Prozesses entspricht.

Dies zählt zu den fortschrittlichsten Technologien der Welt und ist vergleichbar mit dem Fahrplan, den TSMC und Samsung mit ihren massiven Investitionen in die neueste Generation von EUV-Maschinen verfolgen.

Der entscheidende Punkt in Huaweis Stellungnahme ist die Aussage von Frau He, dass die Verbesserung der Lithografietechnologie für die neue Ausrichtung des Unternehmens „nicht mehr zwingend notwendig“ sei. Dies ist ein direktes Signal an den größten Engpass in Chinas Halbleiterindustrie.

Aufgrund der US-Sanktionen ist es chinesischen Unternehmen nun untersagt, EUV-Anlagen des niederländischen Monopolisten ASML zu erwerben. Theoretisch können sie daher mit herkömmlichen Methoden keine Chips mit einer Strukturgröße von 3 nm oder kleiner herstellen. Sollte die LogicFolding-Architektur wie angekündigt funktionieren, versucht Huawei genau diese Hürde zu umgehen.

Es ist nicht das erste Mal, dass Huawei mit seinem Chip-Fertigungsprozess überrascht. 2023 brachte das Unternehmen das Mate 60 Pro mit dem Kirin 9000S-Chip auf den Markt, der im 7-nm-Verfahren hergestellt wurde. Dies verblüffte viele westliche Experten, die China dies unter den Sanktionen nicht zugetraut hatten.

Die Diskrepanz zwischen den angegebenen Spezifikationen und der Realität der Massenproduktion bleibt jedoch ein zentrales Problem. Eine Transistordichte entsprechend 1,4 nm theoretisch zu erreichen, ist eine Sache. Die Massenproduktion mit einer akzeptablen Fehlerrate ist eine ganz andere. Selbst TSMC und Samsung haben Jahre gebraucht, um dieses Problem mit jeder neuen Technologiegeneration zu lösen.

Dennoch ist Huaweis Erklärung ein bemerkenswertes Signal. Sie zeigt, dass China proaktiv seinen eigenen Weg in der Halbleiterentwicklung verfolgt, anstatt auf die Aufhebung des Embargos zu warten.