ASML säljer 1nm chipetsningsutrustning utan 2nm chip ännu

För närvarande är de två ledande namnen inom världens chipgjuteriindustri, i ordning, TSMC och Samsung Foundry. Båda började tillämpa extrem ultraviolett (EUV) litografiteknik för chipproduktion sedan 2019, vilket banade väg för noder under 7 nm.

Enkelt uttryckt, ju mindre processen är, desto mindre transistorer på chipet, desto högre processorkapacitet och energibesparingar, så kapplöpningen mot mindre noder är en vanlig kapplöpning mellan världens ledande halvledarjättar.

Mindre transistorer möjliggör högre densitet på samma yta; och moderna chip kan innehålla tiotals miljarder transistorer (3nm A17 Pro har till exempel 20 miljarder på ett chip), och mellanrummen mellan dem måste vara otroligt tunna. Det är här EUV-litografimaskiner kommer in i bilden. Det finns bara ett företag i världen som tillverkar dem: nederländska ASML.

Nästa generations extrem ultraviolett litografi, känd som high-NA EUV, har börjat levereras. Intel, som har lovat att återta ledarskapet inom processnoder från TSMC och Samsung Foundry senast 2025, var först med att köpa en ny high-NA EUV-maskin värd 400 miljoner dollar, vilket ökar den numeriska bländaren från 0,33 till 0,55. (NA är ljusinsamlingsförmågan hos ett linssystem och används ofta för att utvärdera upplösningen som ett optiskt system kan uppnå.)

En EUV-litografimaskin med hög NA monteras i Oregon, USA. (Foto: Intel)

Detta gör att maskinen kan etsa halvledardetaljer som är 1,7 gånger mindre och öka chipets transistortäthet med 2,9 gånger.

Den första generationen av EUV hjälpte gjuterier att ta sig in i 7 nm-noden, och mer avancerade EUV-maskiner med högt NA kommer att driva chipproduktionen till 1 nm-processnoden och ännu lägre. ASML säger att det högre NA på 0,55 på nästa generations maskiner är det som hjälper den nya utrustningen att överträffa den första generationens EUV-maskiner.

Intel sägs ha 11 maskiner med hög NA-teknik (high-NA EUV), och den första förväntas vara färdigställd 2025. Samtidigt planerar TSMC att använda nya maskiner med en 1,4 nm-processnod under 2028 eller med en 1 nm-processnod under 2030. TSMC, å andra sidan, kommer att fortsätta använda sina gamla EUV-maskiner för att producera 2 nm-chip nästa år. Med hög NA-teknik hoppas Intel kunna komma ikapp TSMC och Samsung inom det mest avancerade chipgjuterisegmentet.

Men Intel står fortfarande inför låg produktion, ekonomiska förluster och ett aktiekurs som har rasat så mycket att företaget har tagits bort från Dow Industrial Average, en lista över de 30 mäktigaste aktierna på den amerikanska aktiemarknaden. Situationen är så dålig för Intel att de har outsourcat chiptillverkningen till TSMC på 3nm och högre.

Som Kinas ledande chipgjuteri och världens tredje största efter TSMC och Samsung Foundry, fick SMIC inte ens köpa första generationens EUV-litografimaskiner på grund av amerikanska sanktioner. Istället tvingades de använda ännu äldre DUV-litografimaskiner (Deep Ultraviolet), som hade svårt att producera chip på noden under 7 nm.

Kvarts (Källa: Phone Arena)

Källa: https://vtcnews.vn/chua-co-chip-2-nm-asml-da-ban-thiet-bi-khac-chip-1-nm-ar906299.html