オランダはASMLの特定の機器を輸出禁止リストに加えると予想される一方、米国は北京の特定の工場に制限を課す計画があると報じられている。
米国は昨年10月以来、国家安全保障上の懸念を理由に、ラムリサーチやアプライドマテリアルズなどの企業による半導体製造装置の中国への輸出を制限しており、世界の半導体サプライチェーンの他の主要企業にも同様の措置を促すキャンペーンを開始している。
半導体メーカーのニコンと東京エレクトロンの本拠地である日本も、7月23日から23種類の半導体製造装置の輸出を制限する規則を可決した。
オランダ政府は、すでに輸出禁止リストに載っている極端紫外線(EUV)リソグラフィー装置に次ぐASMLの2番目に優れた装置である深紫外線(DUV)プリンターに対する新たな輸出規制を6月30日に発表すると予想されている。
ASMLは3月に、政府の規制にTWINSCAN NXT:2000i製品ラインやより複雑なモデルが含まれる可能性があると予想していると述べた。
しかし、TWINSCAN NXT:1980Diなどの旧型のDUVモデルも、中国の製造施設約6カ所への輸出が禁止される可能性があります。ロイター通信によると、この新たな規制により、米国政府は特定の半導体工場を「制裁」対象に指定し、米国産部品の含有量が低い装置であっても輸出制限を課すことが可能になるとのことです。
計画によれば、オランダの新しい規制は直ちに発効するのではなく、9月(発表の2か月後)から実施される予定だ。
一方、米国は7月下旬に、中国最大の半導体企業であるSMIC傘下の工場を含む中国本土の特定の半導体施設への機器輸出許可を求める新たな制限を発表する可能性がある。
世界有数のチップ製造工場であるASMLのほか、ASMインターナショナル(原子層堆積システム)など、他のいくつかの企業も新しいオランダの規則の影響を受けることになる。
(ロイター通信によると)
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