Une équipe de scientifiques et d'ingénieurs développe une nouvelle génération de dispositifs furtifs à plasma qui pourraient permettre à presque tous les avions militaires de disparaître des écrans radar.
La technologie furtive au plasma pourrait conférer un avantage considérable aux avions de chasse. Photo : Weibo
Contrairement aux versions précédentes qui créaient un nuage de plasma recouvrant l'avion, cette nouvelle technologie peut être ajustée pour couvrir des zones facilement détectables par radar sur les aéronefs militaires, telles que le radôme, le cockpit ou d'autres emplacements. Ce dispositif furtif à plasma et faisceau d'électrons fermé vise à protéger les zones critiques plutôt que l'avion entier, comme l'a rapporté Interesting Engineering le 19 février. Il présente de nombreux avantages, notamment une structure simple, une large plage de réglage de la tension et une densité de plasma élevée, a expliqué Tan Chang, scientifique impliqué dans le projet, au magazine chinois Radio Science.
Cette solution technique pourrait bientôt être appliquée à divers aéronefs militaires, selon Tan et ses collègues du Centre de technologie du plasma de l'Institut de propulsion aérospatiale de Xi'an de la China Aerospace Science and Technology Corporation.
Le plasma est composé de particules chargées qui interagissent de manière unique avec les ondes électromagnétiques. Lorsque ces ondes, comme celles émises par un radar, interagissent avec le plasma, elles provoquent un mouvement rapide et des collisions entre les particules, dispersant ainsi l'énergie de l'onde. Cette interaction convertit l'énergie de l'onde électromagnétique en énergie mécanique et thermique des particules chargées, réduisant de ce fait l'intensité de l'onde et affaiblissant le signal radar émis. Même les avions de chasse conventionnels, non conçus pour la furtivité, peuvent considérablement réduire leur détectabilité radar grâce aux dispositifs de furtivité à plasma, ce qui leur confère un avantage certain en combat aérien.
Le plasma peut modifier la fréquence des signaux réfléchis, faussant ainsi les données radar ennemies sur la position et la vitesse d'un avion. Il peut également servir de « bouclier » invisible contre les armes à micro-ondes de forte puissance. Un nombre croissant de chercheurs militaires chinois estiment que cette technologie jouera un rôle crucial à l'avenir.
L'équipe de Tan a testé deux types de dispositifs de camouflage plasma. Le premier consistait à recouvrir les zones sensibles aux radars de l'aéronef de radio-isotopes, émettant des rayons de haute énergie qui ionisaient l'air ambiant. Il en résultait une couche de plasma suffisamment épaisse et dense pour recouvrir la surface et diffuser les signaux radar. Le second dispositif utilisait une haute tension pour activer et ioniser l'air extérieur à l'aéronef, créant ainsi un champ de plasma. D'après les chercheurs, les deux méthodes de furtivité par plasma à basse température ont été testées en vol avec succès.
La technologie furtive à plasma actuelle présente certaines limitations. Le plasma est difficile à modeler avec précision en milieu ouvert, et le maintien d'une densité élevée et constante constitue également un défi. Les interstices dans le plasma peuvent permettre aux ondes électromagnétiques de se réfléchir, révélant ainsi la position de l'aéronef.
L'équipe de Tan a mis au point un dispositif utilisant un faisceau d'électrons pour créer un plasma confiné de grande taille. Contrairement à d'autres techniques, comme les dispositifs à plasma radiofréquence confinés, leur méthode sépare le plasma de sa source, offrant ainsi une plus grande flexibilité de conception pour s'adapter à différentes configurations d'aéronefs. Selon eux, le plasma produit par le faisceau d'électrons est plus facile à régler, présente un meilleur rendement énergétique, réduit les besoins en énergie électrique de l'aéronef et est plus léger, ce qui le rend idéal pour des applications pratiques. Des essais au sol d'un prototype ont prouvé la faisabilité de cette conception.
An Khang (Selon Interesting Engineering )
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